ホットホール注入によるトンネルゲート酸化膜の絶縁性劣化
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概要
著者
-
谷口 研二
大阪大学大学院工学研究科
-
鎌倉 良成
大阪大学大学院工学研究科電気電子情報工学専攻
-
鎌倉 良成
大阪大学大学院工学研究科
-
石田 明寛
大阪大学大学院工学研究科電子情報エネルギー工学専攻:(現)ソニー株式会社
-
Taniguchi K
Osaka Univ. Osaka Jpn
-
宇野 重康
大阪大学大学院工学研究科電子情報エネルギー工学専攻
-
出口 和亮
大阪大学大学院
-
宇野 重康
大阪大学大学院工学研究科電子情報エネルギー工学専攻:(現)日立ヨーロッパ社
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