連続イオンプレーティング装置で形成したTiN薄膜の予熱処理による密着性向上
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概要
著者
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鈴木 一弘
川崎製鉄株式会社技術研究所
-
井口 征夫
川崎製鉄株式会社技術研究所
-
井口 征夫
川崎製鉄(株)技術研究所
-
鈴木 一弘
川崎製鉄(株)技術研究所
-
高橋 夏木
日本真空技術(株)産業機器事業部
-
大久保 治
日本真空技術(株)産業機器事業部
-
大久保 浩
日本真空技術(株)産業機器事業部
-
井口 征夫
川崎製鉄(株)技研
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