活性酸素発生用イオン源
スポンサーリンク
概要
著者
-
村上 寛
産総研
-
黒河 明
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
-
村上 寛
産業技術総合研究所
-
村上 寛
電子技術総合研究所
-
中村 健
産業技術総合研究所
-
一村 信吾
電子技術総合研究所
-
一村 信吾
産業技術総合研
-
黒河 明
電子技術総合研究所
-
中村 健
電子技術総合研究所
-
姜 煕載
忠北大学
関連論文
- 産総研での模型スターリングエンジンの教育実習(模型スターリングエンジン(2))
- M06 産総研におけるスターリングエンジンの教育実習
- 水晶振動子計測によるプラズマ気相成分分析
- 2種類の圧力測定子を用いた水素漏洩検知
- 二成分濃度測定法における温度・湿度の影響
- 微小重力下での薄膜の溶融・凝固実験
- 金属クラスター錯体イオンビームの発生とその応用
- 3a-B4-5 UHV-STMによるSi表面の観察(III)
- マイクロ波送電研究のためのマイクロ波長期曝露設備と環境評価
- 27a-P-7 UHV-STMによるSi清浄表面の観察
- XPSにおて発生分布の非対称に与える弾性散乱効果の検討
- 28a-D-4 STMによる2Ha-NbSe_2の原子像観察
- 宇宙での超伝導薄膜の作製(地上での予備実験)
- JEMによる超伝導薄膜の作製
- 酸素圧制御による超伝導薄膜の作製(II)
- 酸素圧制御による超伝導薄膜の作製
- 超伝導検出器を搭載した飛行時間質量分析器の開発
- 6a-T-4 Si(111)劈開面のSTM観察
- 28a-D-3 原子像観察のためのSTM装置
- レーザーイオン化による極高真空計測-分子密度計測の可能性-
- 極高真空におけるアトムカウンティング技術
- 4a-Q-11 MonohydrideおよびPolyhydride吸着Si(111)7×7表面の2次非線形光学特性
- 31a-WC-12 水素吸着によるSi(111)7x7表面の2次非線形光学特性の変化
- ピコ秒レーザによるガスイオン化特性と真空計測
- 酸素プラズマ発生源
- 酸化膜作成用小型イオン源の試作(II)
- イオンエンジンホロ-カソ-ドの特性評価
- レーザによる極高真空計測の高感度化
- レーザ生成イオンの飛行時間型質量分析における検出効率の質量依存性
- マイクロ波イオン源特性評価 (第31回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)
- 10. 低速イオンによる合金の表面損傷(鋼材の表面物性とその評価技術 : (II) 分析技術)
- 表面分析用試料加熱電源 (第22回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)
- 真空における"極"の追究
- 高純度オゾンビームを用いたシリコン極薄酸化膜の形成と評価
- カーボンナノチューブを用いた宇宙用真空計の試作
- カーボンナノチューブを用いたイオンゲージ用冷陰極電子源の研究
- 小型マイクロ波イオン源のオゾンによる動作特性
- 高純度オゾンによるシリコン酸化膜の作製と評価
- 活性酸素発生用イオン源
- 模型スターリングエンジンの製作
- シリコン酸化膜の構造遷移層の密度分布解析
- M10 産総研での模型スターリングエンジンの教育実習 : サイエンスキャンプ2008(模型スターリングエンジン(2))
- 6a-T-3 Si(111)表面のテラス・原子ステップ挙動のSTM観察
- 1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザン(HMDS)とオゾンによるシリコン酸化膜成長 : 赤外吸収スペクトルによる解析
- 大容量型高純度オゾンビーム発生装置
- SM5 電総研における模型スターリングエンジンの教育実習
- 極高真空用材料の真空特性
- 2種類の圧力計による大気圧O_2/O_3混合ガスのO_3濃度計測
- 強磁性体を用いたトンネル接合型電子源の作成
- 遷移金属の酸化還元反応を用いた新しいオゾン分解法
- 水晶摩擦真空計を用いた2成分混合気体の濃度計測
- 圧力計測・校正用極高真空装置の試作とそのガス放出特性
- 試料導入室における試料汚染要因
- 24aPS-41 Si(100)上でのオゾンによる酸化初期過程のSTM観察
- 22pT-15 オゾン酸化法を用いたMIM, MIS接合型電子源の作成 : 新しいスピン偏極電子源の作成の可能性
- 新しい低温酸化プロセスの開発 (特集 新世代を拓くプロセス技術)
- 高品位シリコン酸化膜のオゾンによる低温作製技術 (特集 半導体プロセス技術のイノベーション)
- 極薄シリコン酸化膜の新しい作製手法の開発--超高密度記録素子作製に向けた大きな一歩
- オゾン分解反応計測用指向性質量分析器の指向特性
- 高濃度オゾンの発生と応用技術
- 高濃度オゾンで形成した極薄シリコン酸化膜の界面構造
- 高純度オゾンビームを利用したシリコン酸化膜形成と表面クリーニング
- オゾンによる水素終端シリコン酸化の面方位依存性
- 第二高調波発生(SHG)によるシリコン表面の信号検出深さ
- 純オゾンビームの発生とシリコン極薄酸化膜作製への応用
- 非線形光学効果と表面/界面物性 (表面エレクトロニクスに関する調査報告) -- (表面物性と電子状態)
- P02 サイエンスキャンプ用模型スターリングエンジンの製作
- センサ/動作データベースを用いた宇宙ロボットの腕・姿勢同時制御実験 (特集:宇宙関連技術の研究)
- 落下施設を使った宇宙ロボットの腕・姿勢同時制御実験
- 落下実験に用いた宇宙ロボット切り離し機構
- 宇宙ロボットの姿勢制御実証実験
- 落下施設を用いたロボットの運動実験
- 宇宙ロボットの微小重力運動実験
- XHV '94会議報告
- STMによる半導体表面の研究(STM開発の現状と展望)
- 5a-TA-7 水晶振動子共振周波数の圧力依存性
- 3p-KB-5 水晶摩擦真空計と気体粘性 : 粘性率測定への応用
- LEED, LEESによるFe表面状態の解析(I) : 表面物理, 薄膜
- 表面構造の形成およびその場断層解析用真空装置の試作
- 表面電子分光断層解析装置によるオージェ電子分布の解析
- オゾンビームの運動量制御
- 気体中の水晶振動子のインピーダンスと周波数の圧力依存性の比較
- サマリー・アブストラクト
- マイクロ波イオン源特性評価
- サマリー・アブストラクト
- アブストラクト
- 表面分析用試料加熱電源
- 金属クラスター錯体イオンビームの特性と二次イオン質量分析(SIMS)への応用
- 水晶摩擦真空計と粘性真空計の理論
- 水晶振動子を用いた摩擦真空計の理論
- 気体中の水晶振動子のインピーダンスと周波数の圧力依存性の比較
- アブストラクト
- 酸化膜作成用小型イオン源の試作
- アブストラクト
- アブストラクト
- 液滴ラジエータ開発用スペースチャンバー
- 表面断層解析用装置によるSi表面層の観察
- アブストラクト
- アブストラクト
- 活性ビ-ムの表面反応を利用した表面構造制御とエレクトロニクスへの応用 (表面エレクトロニクスに関する調査報告) -- (表面改質と微細加工)