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早稲田大学ナノ理工学研究機構 | 論文
- キャリア移動度評価によるシリコンナノワイヤトランジスタの電気特性解析 (シリコン材料・デバイス)
- 金属電極/high-k絶縁膜キャパシタのフラットバンド電圧特性に与える仕事関数変調及び熱処理の影響(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- 結腸陰窩における細胞増殖分化の時空間ダイナミクス (第5回生物数学の理論とその応用)
- 82. 樹脂製マイクロチャネルアレイを用いた血液流動試験(第80回 日本医科器械学会大会 一般演題講演集)
- 分子エレクトロニクス用マイクロギャップ平坦電極の作製
- 82 樹脂製マイクロチャネルアレイを用いた血液流動試験(検査・モニタリング1)
- 金属/Hf系高誘電率絶縁膜界面の統一理論 : ゲート金属の設計指針(先端CMOSデバイス・プロセス技術)
- 大面積モールド作製プロセスおよびナノインプリント装置用アライメント技術
- ナノインプリントを用いたポリマー導波路型波長フィルターの作製と評価(量子効果デバイス(光信号処理、LD、光増幅、変調等)と集積化技術、一般「材料デバイスサマーミーティング」)
- ナノインプリントを用いたポリマー導波路型波長フィルターの作製と評価(量子効果デバイス(光信号処理、LD、光増幅、変調等)と集積化技術、一般「材料デバイスサマーミーティング」)
- Ru-Mo合金を用いた金属/high-k 絶縁膜ゲートスタックの実効仕事関数制御
- キャリア移動度評価によるシリコンナノワイヤトランジスタの電気特性解析(ゲート絶縁薄膜、容量膜、機能膜及びメモリ技術)
- ナノスプレー一体型ポリマー製マイクロチップにおける電気泳動分離-質量分析検出
- 複合ナノインプリントプロセスとデバイスへの応用
- UVナノインプリントを用いた高アスペクト比Siナノ構造体の作製
- W13-(3) ポリマーMEMSとマイクロTASへの応用(マイクロ加工およびマイクロTAS,ワークショップ)
- 金属/high-k絶縁膜構造トランジスタにおいて金属結晶が閾値電圧ばらつきに及ぼす影響とその抑制(IEDM特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
- 30aRD-2 バイアス電圧印加硬X線光電子分光法による界面電子状態の高感度観測(30aRD 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 25pTD-2 硬X線光電子分光法によるゲートスタック構造内のポテンシャル分布の直接観測(表面界面電子物性,領域9,表面・界面,結晶成長)
- マイクロ流体素子を目的とした金属電極埋め込みPDMS三次元構造体組み立て技術