田村 一二三 | 日立中研
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概要
関連著者
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田村 一二三
日立中研
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木村 博一
日立中研
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田村 一二三
日立製作所中央研究所
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石谷 亨
日立製作所計測器グループ
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田村 一二三
日立中央研究所
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大村 一郎
日立中研
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樋口 久幸
日立中研
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近藤 彌太郎
日立中研
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土井 紘
日立中研究所
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田谷 俊陸
日立中研
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近藤 敏郎
日立中研
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土井 紘
日立中研
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泉 栄一
日立那か工場
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田村 一二三
株式会社日立製作所中央研究所
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田村 一二三
日立製作所,日立中央研究所
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石谷 亨
日立製作所,日立中央研究所
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只野 寿太郎
佐賀医科大学臨床検査医学講座
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牧 道義
日立中研
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竹本 猛夫
日立中研
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森 金太郎
日立工機
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小野 員正
通研
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池上 和一
日立中研
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坂下 潔
日立日研
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細木 茂行
日立中研
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細木 茂行
日立製作所
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石崎 哲郎
防衛大
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只野 寿太郎
佐賀医科大学病院
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岡野 寛
日立製作所
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菰田 孜
日立中研
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鹿又 一郎
日立中央研究所
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田村 一二三
株日立製作所中央研究所
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石谷 亨
日立中央研究所
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泉 栄一
（株）日立製作所那珂工場
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泉 栄一
日立製作所,那珂工場
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森 金太郎
日立工機株式会社精機部
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鹿又 一郎
日立製作所中央研究所
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石谷 享
日立中央研究所
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鈴木 堅一
新日鉄基礎研
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柴田 淳
日立那珂
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山本 恵彦
日立中央研究所
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近藤 敏郎
日立中央研究所
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小野 員正
電々公社・電気通信研究所
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玉井 満徳
防衛大学校機械教室
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木村 博一
株式会社日立製作所中央研究所
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森金 太郎
株式会社日立製作所中央研究所
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岡野 寛
日立製作所那珂工場
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只野 寿太郎
佐賀医科大学
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石谷 亨
日立製作所中央研究所
著作論文
- 走査型電子顕微鏡による半導体の観察 : 電子ビームとその応用シンポジウム
- イオンエッチング装置の開発 : 電子ビームとその応用シンポジウム
- 電子線蒸着法の改良 : 逆散乱電子の除去と新しい蒸着装置 : 電子ビームシンポジウム
- 電子衝撃蒸着装置の試作とその応用 : 薄膜・超高真空管合同シンポジウム
- 薄膜抵抗体の電子ビームによる加工とその特性 : 電子ビーム加工シンポジウム
- イオンプローブの諸特性 : 荷電ビームと応用
- スパッタリング質量分析計の応用 : 荷電ビームと応用
- SUS430鋼の表面近傍の酸素が二次イオン質量分析におよぼす影響
- 二次イオン質量分析法の生体医学への応用 : ―ヒトの各種臓器分析への試み―
- 走査型電子顕微鏡による半導体素子の直接観察II : 半導体 : 測定法
- 電子線蒸着装置のshadowingへの応用 : X線・粒子線
- 2次イオン質量分析法 (セラミックスの表面,界面を探る)
- SIMSの生体分析への応用 (SIMS特集)
- 二次イオン放出--SIMSの生体分析への応用 (原子・分子・イオンの放出を観測する表面研究手法(技術ノ-ト))
- 負イオンによる絶縁物分析
- 液体ガリウムイオン源と走査型イオンマイクロビーム
- 玉虫色のひみつ--2次イオン質量分析法の応用
- 二次イオン質量分析法(SIMS)によるOrchard Leavesの定量分析
- 二次イオン質量分析法におけるダイナミック深さ測定法
- スパッタリングについて
- SIMSによる鋼中固溶炭素,窒素と水素の相互作用に関する研究
- 電子衝撃形固体イオン源
- スパッタ・イオン源の試作とIMA分析への応用
- IMAにおけるイオンモニタ法の開発とその応用
- 表面解析法におけるスパッタ・エッチング
- 二次イオン放出の吸着による影響 : イオンマイクロアナライザ (I)
- 新しい電子線蒸着装置とその特性