スパッタ・イオン源の試作とIMA分析への応用
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概要
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This paper describes a sputter ion source which makes use of secondary ions emitted from ion-bombarded solids, so which gives ion beam of any element in solid state. As a preliminary application, this source has been used as an ion source of IMA. Two samples of GaAs and AgAu-alloy were analyzed under the bombardment of alkali-metal ion beam of 10 to 60 nA and about 1 mm in diameter. It was shown that the alkali-metal ion bombardment gives more current of negative secondary ions for elements with strong electron affinity than that given by O<SUB>2</SUB><SUP>+</SUP> ion bombardment.
- 日本真空協会の論文
著者
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田村 一二三
日立中研
-
石谷 亨
日立製作所計測器グループ
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田村 一二三
日立製作所中央研究所
-
鹿又 一郎
日立製作所中央研究所
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田村 一二三
日立製作所,日立中央研究所
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石谷 亨
日立製作所,日立中央研究所
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