集束イオンビームを利用したマイクロマシニングとデバイス移植

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 日本真空協会の論文

著者

• 石谷 亨

  日立製作所計測器グループ

• 石谷 亨

  日立ハイテクノロジーズ

• 大西 毅

  日立製作所計測器事業部ビームテクノロジーセンタ

• 石谷 亨

  日立製作所計測器事業部ビームテクノロジーセンタ

関連論文

• FIB試料の最近の進歩 (新手法--21世紀に向けて)
• 集束イオンビ-ム加工法で作製した材料の透過電子顕微鏡による観察 (電子・イオン技術を用いた表面観察・分析の新展開)
• 液体ガリウムイオン源と走査型イオンマイクロビーム
• 二次イオン質量分析法におけるダイナミック深さ測定法
• スパッタ・イオン源の試作とIMA分析への応用
• 集束イオンビームを利用したマイクロマシニングとデバイス移植
• イオン源 : 最近の話題
• イオン顕微鏡(SIMとFIM)
• 集束イオンビーム装置

スポンサーリンク