山崎 努 | 九州大学大学院

スポンサーリンク

概要

• 山崎 努の詳細を見る
• 同名の論文著者
• 九州大学大学院の論文著者

関連著者

• 土肥 俊郎

  九州大学大学院

• 大西 修

  九州大学大学院

• 山崎 努

  九州大学大学院

• 黒河 周平

  九州大学大学院

• 畝田 道雄

  九州大学大学院

• 黒河 周平

  九州大学大学院工学研究院

• 大西 修

  九州大学大学院工学研究院

• 土肥 俊郎

  埼玉大学教育学部

• 黒河 周平

  九大

• 山崎 努

  九州大学大学院工学研究院

• 山崎 努

  九大

• 黒河 周平

  九大 大学院工学研究院

• 会田 英雄

  並木精密宝石(株)

• 梅崎 洋二

  九州大学大学院

• 石川 憲一

  金沢工業大学

• 成瀬 尚

  金沢工業大学大学院

• 畝田 道雄

  金沢工大

• 尹 涛

  九州大学大学院工学府知能機械システム専攻

• 山口 靖英

  三井金属鉱業

• KISHII Sadahiro

  Fujitsu Laboratories Ltd.

• 岸井 貞浩

  (株)富士通研究所

• 畝田 道雄

  金沢工業大学

• 瀬下 清

  九州大学大学院

• Kishii Sadahiro

  Device Integration Technology Laboratories, Fujitsu Laboratories Ltd., Atsugi, Kanagawa 243-0197, Japan

• 岸井 貞浩

  (株) 富士通研究所

• 村田 慎太郎

  金沢工業大学大学院

• 山口 靖英

  三井金属鉱業 (株)

もっと見る 閉じる

著作論文

• 化学機械研磨(CMP)と研磨剤(教科書から一歩進んだ身近な製品の化学)
• 画像処理によるスラリーフローの定量評価研究
• 研磨パッドにおける各種溝パターンがスラリーフローに及ぼす影響
• 加工環境コントロール型CMP装置によるガラス基板の研磨特性
• 酸化セリウムとその代替を目指す酸化マンガン系スラリーによるガラス基板の研磨特性とその加工メカニズム

スポンサーリンク