山下 浩司 | 名城大学理工学部
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概要
関連著者
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岩谷 素顕
名城大学理工学研究科
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上山 智
名城大学理工学研究科
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赤崎 勇
名城大学理工学研究科
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竹内 哲也
名城大学理工学部
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竹内 哲也
名城大学理工学部電気電子工学科
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加賀 充
名城大学理工学部
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山下 浩司
名城大学理工学部
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赤★ 勇
名城大学大学院・理工学研究科:名城大学・ハイテクリサーチセンター
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飯田 大輔
名城大学理工学研究科
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北野 司
名城大学大学院・理工学研究科・21世紀coeナノファクトリー
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赤崎 勇
名城大学理工学部電機電子工学科
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矢木 康太
名城大学理工学部
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山下 浩司
名城大学大学院理工学研究科
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加賀 充
名城大学大学院理工学研究科
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矢木 康太
名城大学大学院理工学研究科
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天野 浩
名古屋大学大学院工学研究科赤崎記念研究センター
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岩谷 素顕
名城大学・理工学部
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天野 浩
名古屋大学 大学院工学研究科 電子情報システム専攻 赤崎記念研究センター
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森田 隆敏
名城大学理工学部
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桑野 侑香
名城大学理工学部
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南川 大智
名城大学理工学部
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天野 浩
名古屋大学
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天野 浩
名古屋大学大学院工学研究科電子情報システム専攻
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北野 司
エルシード株式会社
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北野 司
名城大学理工学研究科、21世紀COEプログラムナノファクトリー
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竹内 哲也
名城大理工
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天野 浩
名城大学理工学研究科電気電子・情報・材料工学専攻
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天野 浩
名城大学 理工学部材料機能工学科
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上山 智
名城大学・理工学部
著作論文
- 窒化物半導体トンネル接合の作製(輸送特性,結晶成長,評価技術及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- 窒化物半導体トンネル接合の作製(輸送特性,結晶成長,評価技術及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
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- n-GaN表面層を有する構造内p-GaNのMgアクセプタ活性化(窒化物及び混晶半導体デバイス,及び一般)
- n-GaN表面層を有する構造内p-GaNのMgアクセプタ活性化(窒化物及び混晶半導体デバイス,及び一般)
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