白藤 純嗣 | 大阪大学工学部電気工学科

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• 白藤 純嗣

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• 白藤 純嗣

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• 服部 励治

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• 井上 真雄

  (株)ルネサステクノロジ

• 谷田 行庸

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• 杉野 隆

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• 井上 真雄

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• 井上 真雄

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• 白藤 純嗣

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• 服部 励治

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• 白川 千洋

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著作論文

• リン化処理を施した化合物半導体へのショットキー接合
• リン化処理を用いた化合物半導体表面の安定化
• ポリジメチルシランの配向制御と発光特性
• シリコンM0Sキャパシタの界面準位生成に対する酸化膜電圧およびその極性依存性
• F-Nトンネル電流ストレスによる(100)Si/SiO_2界面準位の生成機構とその特性
• FN注入によるMOSダイオードの劣化とa.c.コンダクタンス測定
• SiO_2薄膜の絶縁劣化とコンダクタンスの関連
• ポリシラン(有機シリコン高分子)の配向制御と光学特性
• ソース・ドレインにショットキー障壁接合を持つPoly-Si TFTの作製と評価
• イットリウムシリサイド/シリコン接合の作製と電気的特性
• ショットキーバリアトンネルトランジスタ(SBTT)の数値解析
• a-Si:Hグロ-放電膜のタイムオブフライト測定による評価--モノシラン膜とジシラン膜の比較 (太陽光発電システム)
• a-Si:Hグロ-放電膜のタイムオブフライト測定による評価--モノシラン膜とジシラン膜の比較 (太陽光発電システム)

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