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井上 真雄 | 大阪大学工学部電気工学科
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概要
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関連著者
井上 真雄
(株)ルネサステクノロジ
白藤 純嗣
大阪大学工学部
井上 真雄
大阪大学工学部電気工学科
白藤 純嗣
大阪大学工学部電気工学科
著作論文
FN注入によるMOSダイオードの劣化とa.c.コンダクタンス測定
SiO_2薄膜の絶縁劣化とコンダクタンスの関連
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