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井上 真雄 | 大阪大学基礎工学部電気工学科
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井上 真雄
(株)ルネサステクノロジ
井上 真雄
大阪大学基礎工学部電気工学科
白藤 純嗣
大阪大学基礎工学部電気工学科
白藤 純嗣
大阪大学工学部電気工学科
著作論文
F-Nトンネル電流ストレスによる(100)Si/SiO_2界面準位の生成機構とその特性
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