中村 慶久 | 東北大学電気通信研究所

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概要

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• 同名の論文著者
• 東北大学電気通信研究所の論文著者

関連著者

• 中村 慶久

  東北大学電気通信研究所

• 村岡 裕明

  東北大学電気通信研究所

• 島津 武仁

  東北大学電気通信研究所

• 渡辺 功

  東北大学電気通信研究所

• 青井 基

  東北大学電気通信研究所

• 岡本 好弘

  愛媛大学工学部

• 大沢 寿

  愛媛大学工学部

• 中村 慶久

  岩手県立大学

• 中村 慶久

  岩手県立大学:東北大学電気通信研究所

• 斎藤 秀俊

  工学院大学工学部情報通信工学科

• 三浦 健司

  東北大学電気通信研究所

• 山田 洋

  東北大学電気通信研究所

• 及川 忠昭

  東北大学電気通信研究所:富士電機アドバンストテクノロジー株式会社

• 中村 慶久

  東北大

• 杉田 愃

  東北工業大学

• 片田 裕之

  東北大通研:日立

• 片田 裕之

  東北大学電気通信研究所

• 金井 靖

  新潟工科大学情報電子工学科教授

• 斎藤 秀俊

  東北大学電気通信研究所

• 仲村 泰明

  愛媛大学大学院理工学研究科

• 岡本 好弘

  愛媛大学大学院理工学研究科

• 大沢 寿

  愛媛大学大学院理工学研究科

• 中村 慶久

  Jstイノベーションプラザ宮城:東北大学電気通信研究所

• 高野 研一

  東北大学電気通信研究所

• 稲葉 祐樹

  東北大学電気通信研究所

• 金井 靖

  新潟工科大学工学部

• 斎藤 秀俊

  愛媛大学工学部電気電子工学科

• 渡辺 英暁

  新潟工科大学工学部

• 佐藤 英夫

  東北大学電気通信研究所

• 仲村 泰明

  愛媛大学工学部

• 村岡 裕明

  東北大

• 西村 光弘

  愛媛大学大学院理工学研究科

• 中村 慶久

  東北大学

• 橋本 光弘

  東北大学電気通信研究所

• 北上 修

  東北大学多元物質科学研究所

• 鈴木 良夫

  東北大学電気通信研究所:(株)日立製作所中央研究所

• 杉田 愃

  東北大学電気通信研究所

• 杉田 愃

  東北工業大学電子工学科

• 夏 衛星

  東北大学電気通信研究所

• 山本 裕文

  愛媛大学工学部

• 松原 亮

  新潟工科大

• 及川 忠昭

  富士電機アドバンストテクノロジー株式会社

• 上住 洋之

  富士電機株式会社電子カンパニー

• 増成 訓之

  愛媛大学工学部

• 寺川 潤

  東北大学電気通信研究所

• 岡本 聡

  東北大学多元物質科学研究所

• 酒井 泰志

  富士電機(株)

• 上住 洋之

  富士電機(株)

• 篠原 宜彦

  愛媛大学大学院理工学研究科

• 山川 清志

  秋田県産業技術総合研究センタ

• 清水 俊昌

  富士通テン株式会社

• 藤渕 まどか

  愛媛大学工学部

• 舟野 祥

  愛媛大学工学部

• 関 健太

  東北大学電気通信研究所

• 村松 孝一

  東北大

• 三塚 要

  東北大学電気通信研究所

• 及川 忠昭

  富士電機株式会社

• 山川 清志

  秋田県高度技術研究所

• 渡辺 貞幸

  富士電機アドバンストテクノロジー株式会社

• 斉藤 健治

  愛媛大学工学部

• 竹野入 俊司

  富士電機デバイステクノロジー(株)

• 竹野入 俊司

  富士電機アドバンストテクノロジー(株)

• 山川 慶之

  東北大学電気通信研究所

• 田中 陽一郎

  東北大学電気通信研究所

• 高橋 正晴

  東北大学電気通信研究所

• 里舘 慶洋

  東北大学電気通信研究所

• 村松 孝一

  東北大学電気通信研究所

• 沼澤 潤二

  東北大学電気通信研究所

• 上住 洋之

  富士電機ストレージデバイス(株)

• 竹野入 俊司

  (株)富士電機総合研究所

• 榎本 一雄

  富士電機(株)

• 渡辺 貞幸

  (株)富士電機総合研究所

• 札野 欽也

  NECソフトウェア東北(株)

• グリーブス サイモン

  東北大学電気通信研究所

• 須藤 考幸

  愛媛大学工学部

• 大内 一弘

  AIT(秋田県高度技術研究所)

• 札野 欽也

  Necソフトウェア東北(株):東北大学電気通信研究所

• 佐藤 光輝

  愛媛大学工学部

• 札野 欽也

  東北大学電気通信研究所

• 片倉 亨

  ソニー(株)中央研究所

• 中岡 巧

  ドコモエンジニアリング四国株式会社

• 中岡 巧

  愛媛大学工学部

• 佐藤 靖夫

  東北大学電気通信研究所

• 大月 章弘

  富士電機

• Gyorgy Safran

  ハンガリー科学アカデミー

• Safran Gyorgy

  Research Institute For Technical Physics And Materials Science Hungarian Academy Of Sciences

• 片倉 亨

  ソニー(株)cpcカンパニー

• 佐々木 保

  東北大学電気通信研究所

• 大月 章弘

  富士電機デバイステクノロジー

• 榎本 一雄

  富土電機株式会社

• 白石 勇磨

  日本ビクター

• 法橋 滋郎

  ソニー

• 酒井 佐芳

  (株)富士通研究所

• 鈴木 淑男

  秋田県高度技術研究所

• 鈴木 淑男

  秋田県産業技術総合研究センター高度技術研究所

• 土山 龍司

  株式会社日立製作所中央研究所

• 猪狩 孝洋

  ソニー株式会社

• Safran G

  Hungarian Acad. Sci.

• 鈴木 淑男

  AIT(秋田県高度技術研究所)

• 吉田 亮一

  東北大

• 杉田 愃

  東北工大

• 野中 倫明

  東京都立大塚病院 外科

• 野中 作太郎

  九州電気専門学校

• 西田 靖孝

  日立製作所中央研究所

• 武士末 卓

  愛媛大学大学院理工学研究科

• 谷岡 健吉

  NHK放送技術研究所

• 及川 忠昭

  (株)富士電機総合研究所

• 及川 忠昭

  株式会社富士電機総合研究所デバイス技術研究所

• 中 茂樹

  富山大学工学部理工学研究科ナノ新機能物質科学専攻

• 西澤 潤一

  東北大

• 坂内 正夫

  東京大学生産技術研究所

• 吉田 和悦

  工学院大学

• 酒井 善則

  東京工業大学

• 日野 雅也

  ボッシュ株式会社トランスミッション部門

• 日野 雅也

  愛媛大学大学院理工学研究科

• 増本 健

  電気磁気材料研究所

• 柿内 健司

  愛媛大

• 佐野 俊一

  東芝

• 高橋 慎吾

  秋田県産業技術総合研究センター

• 大内 一弘

  秋田県高度技術研究所

• 中村 敦

  日立製作所中央研究所ストレージ・テクノロジー研究センタ

• 中村 敦

  (株)日立製作所中央研究所

• 高橋 慎吾

  秋田県高度技術研究所

• 坂内 正夫

  東京大学 生産技術研究所

• 大久保 恵司

  富士電機

• 大越 孝敬

  東京大学先端科学技術研究センター

• 佐藤 勇武

  TDK応用製品研究所

• 成重 眞治

  (株)日立製作所中央研究所

• 鈴木 良夫

  日立製作所中央研究所

• 高野 公史

  日立製作所中央研究所

• 斉藤 秀俊

  工学院大学

• 近藤 陽介

  愛媛大学工学部

• 内池 平樹

  広島大

• 内池 平樹

  広島大学 工学部 第二類(電気系)電子素子工学研究室

• 山川 清志

  秋田県産業技術総合研究センター高度技術研究所

• 前東 信宏

  愛媛大学工学部

• 篠原 宜彦

  愛媛大学工学部

• 清水 俊昌

  愛媛大学工学部

• 松井 哲平

  東北大学電気通信研究所

• 小野 敏明

  Necトーキン株式会社

• 小野 敏明

  Necトーキン

• 小野 敏明

  トーキンマイクロエレクトロニクス株式会社

• 安藤 隆男

  静岡大学

• グリーブス サイモン

  Tohoku University

• 長坂 恵一

  東北大学電気通信研究所

• グリーブズ サイモン

  東北大学電気通信研究所

• 安藤 隆男

  静岡大学電子工学研究所 テレビジョン学会画像入力シンポジウム実行委員会

• 高野 公史

  (株)日立製作所 中央研究所

• 西澤 潤一

  岩手県立大学

• 増本 健

  財団法人電気磁気材料研究所

• 佐野 俊一

  株式会社東芝機能部品研究所

• 羽島 光俊

  東京大学

• 外山 昇

  NHK

• 永野 俊

  法政大学

• 中村 敦

  日立製作所中央研究所

• 小西 捷雄

  日立製作所 家電研究所

• 杉田 愃

  東北大

• 岩崎 俊一

  東北工業大学

• 斎藤 秀俊

  工学院大学 工学部

• 棚橋 究

  日立製作所中央研究所

• 西田 靖孝

  (株)日立製作所

• 青山 勉

  Tdk

• 青山 勉

  Tdk(株)情報技術研究所

• 黒田 敦子

  (株)日立製作所中央研究所

• 野口 正一

  東北大学応用情報学研究センター

• 高野 公史

  (株)日立製作所中央研究所

• 外山 昇

  Nhk放送技術研究所

• 白川 究

  電気磁気材料研究所

• 棚橋 究

  (株)日立製作所中央研究所

• 大久保 恵司

  (株)富士電機総合研究所

• 白川 究

  (財)電気磁気材料研究所

• 増本 健

  (財)電気磁気材料研究所

• 酒井 泰志

  富士電機株式会社

• 野口 正一

  会津大学

• 岡部 洋一

  東大

• 谷岡 健吉

  Nhk

• 村岡 裕明

  東北大学 電気通信研究所

• 榎本 一雄

  富士電機アドバンストテクノロジー(株)

• 竹野入 俊司

  株式会社富土電機総合研究所

• 渡辺 貞幸

  株式会社富土電機総合研究所

• 大久保 恵司

  富士電機(株)電子カンパニー

• 中 茂樹

  富山大学工学部

• Greaves Simon

  東北大 電通研

• Greaves Simon

  東北大学電気通信研究所

• 飯田 敬

  東北大学電気通信研究所

• 村岡 裕朗

  東北大

• 杉岡 愃

  東北大

• 長友 浩之

  日立

• 土屋 敏雄

  日立

• 岩間 章

  日立金属

• 安部 正幸

  富士通

• 阪口 光人

  日電

• 角田 義人

  日立

• 堀 浩雄

  東芝

• 酒井 佐芳

  富士通研究所

• 法橋 滋郎

  ソニー(株)

• 服部 一博

  TDK(株)記録技術開発センター

• 佐藤 勇武

  TDK(株)記録技術開発センター

• 野口 正一

  東北大学 電気通信研究所

• 菅原 英州

  NECトーキン株式会社

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著作論文

• C-7-1 サーマルディケイを伴うPRMLチャネルへのニューラルネットワーク等化の適用(C-7.磁気記録・情報ストレージ,一般講演)
• CoPtCr-SiO_2垂直磁気記録媒体の結晶磁気異方性エネルギーの2次項K_と構造(磁気記録)
• Hard/Softスタック垂直磁気記録媒体の基礎特性(磁気記録)
• CoPtCr-SiO_2/Ru垂直磁気記録媒体のSiO_2組成と粒の孤立化(磁気記録)
• CoPtCr-SiO_2/Ru垂直磁気記録媒体のSiO_2組成と粒子の孤立化
• K_を利用したCoPtCr-SiO_2垂直磁気記録媒体 : II. K_媒体の設計と課題
• Hard/Soft スタック垂直磁気記録媒体の基礎特性
• CoPtCr-SiO_2/Ru垂直磁気記録媒体における磁気特性のPt,Cr組成依存性(磁気記録)
• CoPtCr-SiO_2グラニュラー垂直磁気記録媒体
• CoPtCr-SiO_2/Ru垂直磁気記録媒体のPt, Cr組成と熱安定性
• CoPtCr-SiO_2/Ru垂直磁気記録媒体のSiO_2組成と高密度化
• CoPtCr(-SiO_2)/Ru垂直磁気記録媒体用薄膜の高垂直磁気異方性
• K_効果を利用したCoPtCr-SiO_2/Ru垂直磁気記録媒体の高密度化
• CoPtCr-SiO_2を用いた垂直磁気記録媒体の磁気特性と記録再生特性(磁気記録媒体)
• C-7-4 垂直磁気記録媒体の磁気的クラスタサイズと磁化曲線
• 垂直磁気記録媒体の磁化曲線の傾きと磁気的クラスタサイズ
• CoPtCr-SiO_2を用いた垂直磁気記録媒体の微細構造と磁気特性
• サーマルディケイを伴う垂直磁気記録に対するGPRMLチャネルの性能評価(記録・記憶技術)
• CoPtCr/(Ru, Pt)薄膜の垂直磁気異方性の熱処理温度依存性
• K_を利用したCoPtCr-SiO_2垂直磁気記録媒体 : I. 磁気異方性と構造との関係
• 高飽和磁化の薄いソフト層を有するHard/Softスタック垂直媒体の磁気特性と記録再生特性(磁気記録)
• 垂直磁気記録の高密度化のための記録ヘッド構造の数値解析
• 垂直磁気記録用書き込みヘッドの磁界解析(垂直磁気記録及び一般)
• 垂直パターン媒体を用いたR/W系の再生波形とビット誤り率特性の検討
• シールド型GMRヘッドの再生分解能に対するリードトラック幅の影響
• C-7-7 パターン媒体におけるジッタ性媒体雑音の一検討(C-7.磁気記録)
• シールド型GMR ヘッドの再生分解能に対するリードトラック幅の影響
• シールド型GMRヘッドの再生分解能に対するリードトラック幅の影響(シミュレーション及び一般)
• 垂直磁気記録のためのニューラルネットワーク等化器の簡単化(記録・記憶技術)
• 垂直磁気記録におけるGuided Scrambling符号化PRML方式の性能評価
• 垂直磁気記録におけるPRML-AR方式の性能改善
• 垂直磁気記録におけるPRML-AR方式の性能改善(シミュレーション及び一般)
• C-7-11 ニューラルネットワークを用いた PRML-AR 方式の一検討
• C-7-9 垂直磁気記録における PRML 方式に対する低域遮断歪の影響
• 垂直磁気記録におけるNPML方式の性能評価(記録・記憶技術)
• 垂直磁気記録におけるARチャネルモデルを用いたPRML方式の性能改善(記録・記憶技術)
• パリティ符号化PRML方式に対するポストプロセッサの一検討
• MR非線形歪を伴う垂直磁気記録再生系におけるニューラルネットワーク等化の一検討
• SC-4-4 ARチャネルモデルを用いたAPP複号器の性能改善
• C-7-2 MR非線形歪を伴う垂直磁気記録再生系のためのNPML方式の一検討
• C-7-1 ARチャネルモデルを用いたPRML方式に対するポストプロセッサーの一検討
• 円筒型PEターゲットの磁界分布とプラズマ分布
• 21世紀への夢(テレビジョン学会創立40周年記念パネル討論会)
• パリティ符号化PRML方式に対するポストプロセッサの一検討
• CoCrPt-(Ta,B)垂直記録媒体の初期成長層の低減と磁気特性 : 垂直磁気記録媒体
• CoTb/CoCrPt系複合型垂直媒体の膜厚構成比と記録再生特性
• ソフトウェアエミュレーションによる磁気記録チャネルシミュレータ用PLLの検討
• 5) 垂直磁気記鈴媒体における経時変化のモデリング(画像情報記録研究会)
• 6) 磁気ストレージの高密度化の課題と将来(画像情報記録研究会)
• 磁気記録材料の磁界解析 -磁気記録媒体のシミュレーション-
• 主磁極接着型垂直磁気記録用薄膜ヘッド
• パネル討論会 : 新しい情報処理デバイスの展望 : 新しい計算機システム構築のために : 昭和59年後期第29回全国大会報告
• 4)1978年度インタマグコンファレンス報告(録画研究会(第29回))
• 1978年度インタマグコンファレンス報告
• C-7-8 ビデオデータのためのグリッドストレージシステムの検討(C-7.磁気記録)
• SC-5-2 高記録磁界2段型コアSPTヘッド
• 高速転送シリンダ状磁気ストレージシステム用ヘッドの開発
• 高速転送シリンダ状磁気ストレージシステム用ヘッドの開発(磁気記録に関わる材料及びシステムの開発と評価)
• シリンダ状媒体対応傾斜パッドスライダの浮上安定性に関する検討
• 傾斜パッド型SPT浮上ヘッドによるシリンダ状CoPtCr-SiO_2垂直二層膜媒体のR/W特性
• 傾斜パッド型ヘッドを用いたCoPtCr-SiO_2垂直二層膜シリンダ状媒体の検討(磁気記録)
• 高速転送シリンダ状磁気ストレージシステムの開発
• 高速転送シリンダ状磁気ストレージシステムの開発(記録媒体及び一般)
• 傾斜パッド型ヘッドを用いたCoPtCr-SiO_2垂直二層膜シリンダ状媒体の検討
• シリンダ状媒体用ヘッドスライダの設計と再生分解能評価(磁気記録)
• SPT ヘッドの主磁極形状に対する記録磁界解析
• SPTヘツドの主磁極形状に対する記録磁界解析(シミュレーション及び一般)
• SPTヘッドの主磁極形状に対する記緑磁界解析
• シリンダ状媒体用ヘッドスライダの再生分解能評価
• 1 Tbit/in^2 なる面密度を仮定した垂直磁気記録SPT へッドの記録磁界解析
• 1 Tbit/in^2なる面密度を仮定した垂直磁気記録SPTヘッドの記録磁界解析(垂直記録,一般)
• シリンダ状媒体を用いた磁気ストレージ装置の基礎検討(磁気ヘッドおよび磁気記録再生特性)
• 反強磁性的な磁化結合による垂直磁気記録媒体裏打層の単磁区化(磁気記録媒体)
• Co/Pt人工格子垂直磁気記録媒体へのB添加効果とNiAlシード層効果(磁気記録媒体)
• 高トラック密度SPTヘッドの磁界解析(3) : テイパード主磁極,テイパードリターンパスおよびサイドシールドを有する構造の検討(信号処理および一般)
• 高トラック密度SPTヘッドの磁界解析(3) : テイパード主磁極,テイパードリターンパスおよびサイドシールドを有する構造の検討
• 高密度SPTヘッドの磁界解析(2) : いろいろな記録密度を仮定した場合
• 高密度SPTヘッドの磁界解析(2) : いろいろな記録密度を仮定した場合
• Co/Pt人工格子垂直磁気記録媒体へのB添加効果
• シリンダ状磁気ストレージ媒体測定装置の基礎検討
• 高飽和磁化FeCo/NiFe(Cr)膜の構造と軟磁性
• 反強磁性的な磁化結合による垂直磁気記録媒体裏打層の単磁区化
• 極薄パーマロイ薄膜の誘導磁気異方性とその温度依存性
• NiFe/FeCo/NiFe高飽和磁化薄膜の構造と軟礎気特性 : ソフト磁性材料
• Co-PrTb/Co-Cr-Ta複合型垂直磁気記録媒体の熱安定性と記録再生特性 : 垂直磁気記録媒体
• Co(-B)/Pd人工格子垂直磁気記録媒体の磁気異方性と磁化の熱擾乱 : 垂直磁気記録媒体
• UHVスパッタにより作製したFeCo薄膜の軟磁性と単磁極ヘッドへの応用(画像記録装置および一般)
• ディスプレイの時間応答と動画の高画質化
• UHVスパッタにより作製したFeCo薄膜の軟磁性と単磁極ヘッドへの応用
• Co(B)/Pd人工格子垂直磁気記録媒体の磁気異方性と磁化の熱擾乱
• Co(B)/Pd人工格子垂直磁気記録媒体の磁気異方性と磁化の熱擾乱
• CoPrTb/CoCrTa垂直複合膜媒体の熱安定性と記録再生特性
• CoPrTb/CoCrTa垂直複合膜媒体の熱安定性と記録再生特性
• 極薄軟磁製薄膜の誘導 : 軸磁気異方性
• CoCr系垂直磁気記録媒体の磁化の熱擾乱と磁気特性
• 極薄軟磁性薄膜の誘導磁気異方性と薄膜磁歪
• 極薄軟磁性薄膜の誘導磁気異方性と薄膜磁歪
• 垂直磁気記録における磁化転移ライン湾曲と再生波形パルス幅
• 垂直磁気記録におけるトラックエッジの記録分解能の変化
• 垂直磁気記録におけるトラックエッジの記録分解能の変化(信号処理及び一般)
• 垂直磁気記録方式における記録再生・熱減磁特性予測
• (Fe-Pt)-Oxide複合材料を用いた垂直二層膜媒体
• (Fe-Pt)-Oxide複合材料を用いた垂直二層膜媒体
• 垂直磁気記録単磁極ヘッドの記録磁界解析
• 主磁極テイパー形状に対するSPTヘッド記録磁界解析
• サイドシールドを有するSPTヘッドの磁界解析
• 高トラック密度SPTヘッドの磁界解析(ハードディスクドライブおよび一般)
• 高トラック密度SPTヘッドの磁界解析
• シールド型GMRヘッドの再生分解能に対するリードトラック幅の影響
• C-7-6 単磁極ヘッド磁界分布及び磁界勾配の三次元解析
• 垂直二層膜媒体における単磁極ヘッド磁界勾配と転移パラメータに関する検討
• 垂直二層膜媒体における単磁極ヘッド磁界勾配と転移パラメータに関する検討
• ARモデルを用いたPRML方式の性能改善(画像記録装置および一般)
• ARモデルを用いたPRML方式の性能改善
• 垂直磁気記録におけるPRチャネルに対するARモデルの一検討
• 垂直磁気記録におけるPRチャネルに対するARモデルの一検討
• SC-4-7 垂直磁気記録再生系に対するARモデルの一検討
• 狭トラックMRヘッドを用いた長手媒体の三次元磁化解析
• CS-7-1 垂直磁気記録における周辺温度が記録再生特性に与える影響(CS-7.高密度垂直磁気記録方式に資する先端磁性薄膜材料開発,シンポジウム)
• 薄膜導体励磁型単磁極浮上ヘッドの試作とその記録特性
• 薄膜導体励磁型単磁極浮上ヘッドの試作とその記録特性
• バーストを伴う垂直磁気記録再生系におけるLDPC符号の訂正能力の検討(ハードディスクドライブ及び一般)
• C-7-2 バーストを伴う磁気記録再生系におけるLDPC符号の性能比較(C-7.磁気記録・情報ストレージ,一般講演)
• バーストを伴う垂直磁気記録再生系における誤り訂正符号の性能比較(垂直磁気記録及び一般)
• C-7-7 減衰器を伴うsum-product復号の一検討(C-7.磁気記録,一般講演)
• LDPC符号の列重みを考慮した繰り返し復号の一検討
• LDPC符号の列重みを考慮した繰り返し復号の一検討(信号処理及び一般)
• C-7-1 パターン媒体を用いた垂直磁気記録における繰り返し復号方式の一検討(C-7.磁気記録,一般講演)
• パターン媒体を用いたLDPC符号化・繰り返し復号化方式の一検討
• パターン媒体を用いたLDPC符号化・繰り返し復号化方式の一検討(垂直磁気記録及び一般)
• 数nm膜厚のNiFeおよびCoZrNb薄膜の誘導磁気異方性
• MR2000-4 数nm膜厚のNiFeおよびCoZrNb薄膜の誘導磁気異方性
• 数nm膜厚のパーマロイ薄膜の誘導磁気異方性
• 極薄パーマロイ薄膜における誘導磁気異方性
• 8-4 単磁極ヘッドのトラック端記録性能
• 単磁極ヘッド/垂直二層膜媒体におけるトラックエッジノイズ
• C-7-7 トラック端分解能に対するヘッド磁界分布の影響
• 二層膜媒体を用いた垂直磁気記録における媒体厚みの影響
• 二層膜媒体を用いた垂直磁気記録における媒体厚みの影響
• 垂直磁気記録における媒体雑音電力推定の検討
• 垂直磁気記録における媒体雑音電力推定の検討(信号処理及び一般)
• C-7-3 MR非線形歪を伴う垂直磁気記録再生系における媒体雑音解析の一検討(C-7.磁気記録,一般講演)
• パターン化媒体のドット形状が再生特性に与える影響(垂直磁気記録及び一般)
• 垂直磁気記録のためのニューラルネットワーク等化器の簡単化と性能改善
• 垂直磁気記録のためのニューラルネットワーク等化器の簡単化と性能改善(垂直記録及び一般)
• 5)垂直磁気記録による録画実験(録画研究会(第52回))
• 8-12 垂直磁気記録による画像記録
• 垂直磁気記録による録画実験
• 磁化転移ライン形状が磁化転移幅と転移ジッタノイズに与える影響(垂直磁気記録及び一般)
• CS-6-3 磁化転移ライン形状が磁化転移幅と転移ジッタノイズに与える影響(CS-6.現在および将来における磁気ストレージ技術のメディアとヘッドの主役,シンポジウム)
• 垂直磁気記録における非線形ひずみの解析(磁気記録)
• C-7-5 垂直磁気記録における非線形歪の実験的考察(C-7. 磁気記録, エレクトロニクス2)
• 垂直二層膜媒体における逆磁区ノイズの線密度依存性とエラーレート特性への影響
• 垂直二層膜媒体における逆磁区ノイズの線密度依存性とエラーレート特性への影響(信号処理及び一般)
• PRML方式の性能評価システムの検討
• CoCrPt-(Ta,B)垂直磁気記録媒体の構造と記録再生特性
• CoCrPt-(Ta,B)垂直磁気記録媒体の磁化の熱擾乱と構造
• トラック端部の磁化状態がトラック密度に与える影響(記録システムおよび一般)
• トラック端部の磁化状態がトラック密度に与える影響(記録システム及び一般)
• C-7-5 円形ドットによるビットパターン媒体を用いた垂直磁気記録の誤り率特性の一検討(C-7.磁気記録・情報ストレージ,一般講演)
• C-7-3 PR1ML方式の誤りパターンにおけるNLTSの影響(C-7.磁気記録・情報ストレージ,一般講演)
• サーマルディケイを伴う垂直磁気記録チャネルにおけるGPRML方式の誤り率特性(垂直磁気記録及び一般)
• バースト情報を用いたLDPC符号化・繰返し復号化方式の性能評価(記録・記憶技術)
• 垂直磁気記録用MRヘッドの再生特性
• 垂直ハードディスクと組み合わせたMRヘッドの記録再生特性
• 垂直ハードディスクと組み合わせたMRヘッドの記録再生特性
• コンタクトMRヘッドによる垂直二層膜メディアの評価
• 垂直磁気記録用コンタクトMRヘッド
• FeTaNおよびFeZrNを主磁極とした単磁極ヘッド
• Fe-Si-N系単磁極ヘッドのノイズおよび出力変動
• Fe-Si-N 薄膜を主磁極とする単磁極ヘッド
• 6)単磁極ヘッドの磁路短縮による高出力化の検討(画像情報記録研究会)
• 単磁極ヘッドの磁路短縮による高出力化の検討 : 画像情報記録
• 単磁極ヘッドの磁路短縮による高出力化の検討
• 3)狭トラック単磁極ヘッドの記録特性(画像情報記録研究会)
• 狭トラック単磁極ヘッドの記録特性 : 画像情報記録
• 垂直二層膜媒体によるPRML方式へのジッタ性ノイズの影響
• 垂直二層膜媒体によるPRML方式へのジッタ性ノイズの影響
• 単磁極ヘッドの外部磁界安定性に関するシミュレーション解析
• 単磁極ヘッドの外部磁界安定性のシミュレーション解析
• マイクロインダクタ用連続軟磁性体シート
• 垂直磁気記録における飽和記録条件の実験的検討(磁気記録)
• 垂直磁気記録における飽和記録条件
• 媒体反転磁界強度と記録ヘッド磁界強度の相関
• 媒体反転磁界強度と記録ヘッド磁界強度の相関(垂直記録,一般)
• 単磁極形狭トラック垂直磁気ヘッド
• 1)狭トラック垂直磁気ヘッド(録画研究会(第52回))
• 狭トラック垂直磁気ヘッド
• スプレイ法を用いた有機EL素子の作製
• 3-4 垂直磁気記録における3/4MTR符号化PRML方式の誤り率特性
• MR2000-8 二層膜媒体を用いた垂直記録における3/4MTR符号化PRML方式の一検討
• CoPtCr-SiO_2垂直磁気記録媒体の高次の一軸磁気異方住と高密度化(高密度磁気ストレージ材料 : 開発の現状・未来と解析技術)
• フェライト基板を用いた垂直ハードディスクの記録再生特性
• フェライト基板を用いた垂直ハードディスクの記録再生特性
• 極薄軟磁性薄膜の誘導磁気異方性と微細構造
• 極薄軟磁性薄膜の誘導 : 軸磁気異方性
• グラニュラー系垂直磁気記録媒体の磁化の熱擾乱と磁気特性
• MR2000-2 グラニュラー系垂直磁気記録媒体の磁化の熱擾乱と磁気特性
• CoCrTa/Ti/M(M : CoZrNb, Fe, Co)垂直二層膜媒体の磁気特性と記録再生特性
• CoCrTa垂直磁気記録媒体の磁化の熱擾乱と磁気特性

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