白川 究 | 電気磁気材料研究所
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概要
関連著者
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白川 究
電気磁気材料研究所
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白川 究
財団法人電気磁気材料研究所
-
増本 健
電気磁気材料研究所
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菅原 英州
NECトーキン株式会社
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白川 究
(財)電気磁気材料研究所
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増本 健
(財)電気磁気材料研究所
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増本 健
財団法人電気磁気材料研究所
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菅原 英州
(株)トーキン、技術開発本部
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増本 健
財団法人 電気磁気材料研究所
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村上 進
財団法人 電気磁気材料研究所
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村上 進
(財) 電気磁気材料研究所
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大沼 繁弘
財団法人電気磁気材料研究所
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李 衛東
(株)トーキン、技術開発本部
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三寺 正雄
(財) みやぎ産業振興機構
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李 衛東
トーキン
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村上 進
(財)電気磁気材料研究所
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矢野 健
(株)トーキン技術開発本部
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白川 究
電磁研
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増本 健
電磁研
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若生 直樹
Necトーキン株式会社
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若生 直樹
Necトーキン(株)技術開発本部
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小林 伸聖
財団法人 電気磁気材料研究所
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菅原 英州
NECトーキン教育情報株式会社
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鈴木 秀夫
(株)トーキン、技術開発本部
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増本 健
東北大金研
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佐藤 正博
(株)トーキン、技術開発本部
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菅原 英州
トーキン
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大沼 繁弘
電気磁気材料研究所
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佐藤 由郎
戸田工業
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西村 貴志
Necトーキン株式会社
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西村 貴志
Necトーキン株式会社技術開発本部
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小野 敏明
Necトーキン株式会社
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小野 敏明
トーキンマイクロエレクトロニクス株式会社
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大槻 悦夫
トーキン
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高田 健一
宮城県産業技術総合センター
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岩佐 忠義
(財)電気磁気材料研究所
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大沼 繁弘
財団法人 電気磁気材料研究所
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小野寺 隆視
(財) みやぎ産業振興機構
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佐藤 由郎
(株)トーキン
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島津 武仁
東北大学電気通信研究所
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堀 豊
宮城県産業技術総合センター
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藤森 啓安
電磁気研
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小野 敏明
Necトーキン
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山口 正洋
東北大学電気通信研究所
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島田 寛
東北大学科学計測研究所 磁気機能計測研究分野
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北上 修
東北大学科学計測研究所
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佐藤 正博
トーキン
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鈴木 秀夫
トーキン
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大沼 繁弘
(財)電気磁気材料研究所
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大槻 悦夫
(株)トーキン電子材料事業本部商品開発部
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桜井 伴明
東北大学多元物質科学研究所
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直江 正幸
電気磁気材料研究所
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小山 恵史
大同特殊鋼
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長田 誠一
大同特殊鋼
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金田 安司
電気磁気材料研究所
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小林 伸聖
電気磁気材料研究所
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白川 究
財団法人 電気磁気材料研究所
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村上 進
電気磁気材料研究所
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三寺 正雄
(財)電気磁気材料研究所
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三寺 正雄
電気磁気材料研究所
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佐藤 由郎
(株)トーキン商品開発研究所
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古川 博道
宮城県産業技術総合センター
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小野寺 隆視
(財)みやぎ産業振興機構
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三寺 正雄
(財)みやぎ産業振興機構
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大槻 悦夫
(株)トーキン
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長田 誠一
大同特殊鋼株式会社
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島田 寛
東北大学科学計測研究所
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山口 正洋
東北大学大学院工学研究科電気・通信工学専攻
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中村 慶久
東北大学電気通信研究所
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佐藤 文博
東北大学大学院工学研究科
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松木 英敏
東北大学大学院医工学研究科
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石山 和志
東北大学電気通信研究所
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藤森 啓安
電気磁気材料研
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三野 正人
NTT環境エネルギー研究所
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増本 健
東北大学金属材料研究所
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荒井 賢一
東北大通研
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島田 寛
東北大科研
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遠藤 恭
東北大学
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三野 正人
NTT通信エネルギー研究所
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遠藤 恭
東北大学科学計測研究所
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北上 修
東北大科研
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山口 正洋
東北大・工
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若生 直樹
(株)トーキン、技術開発本部
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若生 直樹
トーキン
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荒井 賢一
東北大学
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李 衛東
東北大学科学計測研究所
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桜井 伴明
東北大学科学計測研究所
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李 衛東
東北大科研
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桜井 伴明
東北大科研
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若生 直樹
(株)トーキン技術開発本部第2技術開発部
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白川 究
(財)電磁研
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増本 健
(財)電磁研
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山口 正洋
東北大学大学院
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藤森 啓安
財団法人 電気磁気材料研究所
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菅原 英洲
(株)トーキン
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白川 究
(株)電気磁気材料研究所
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大沼 繁弘
(株)電気磁気材料研究所
-
増本 健
(株)電気磁気材料研究所
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猪 義博
トーキン
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矢野 健
財団法人 電気磁気材料研究所
-
岩佐 忠義
電気磁気材料研究所
-
猪 義博
(株)トーキン
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白川 究
(財) 電気磁気材料研究所
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白川 究
公益財団法人電磁材料研究所
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金田 安司
公益財団法人電磁材料研究所
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直江 正幸
公益財団法人電磁材料研究所
-
小林 伸聖
公益財団法人電磁材料研究所
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荒井 賢一
公益財団法人電磁材料研究所
-
増本 健
公益財団法人電磁材料研究所
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佐藤 文博
東北大学大学院 医工学研究科
著作論文
- Fe/Si/Fe三層膜の層間結合
- 光磁気記録磁界変調用磁性薄膜マイクロコイル : 磁気光学・光磁気記録
- 光磁気記録磁界変調用薄膜マイクロコイル
- F-1326 光磁気記録磁界変調用薄膜マイクロコイルの開発(S49-2&S48 マイクロエネルギー(2)/精密機器マイクロメカトロニクス)(S49 マイクロエネルギー)
- 光磁気記録磁界変調用薄膜マイクロコイル
- 高抵抗軟磁性Fe-Al-Oグラニュラー膜の磁区構造
- 高抵抗軟磁性Fe-Al-Oグラニュラー膜の磁区構造
- ナノグラニュラTMR薄膜を用いた次世代磁気センサGIGSの耐熱性向上
- 複合多層構造磁性体を用いたマイクロ電源用マイクロインダクタ(磁気応用)
- 複合多層構造磁性体を用いたマイクロ電源用マイクロインダクタ
- マイクロ電源用薄膜磁心マイクロインダクタ
- マイクロ電源用マイクロインダクタ
- 126 マイクロ DC・DC コンバータ用高 Q CoFeSiB/SiO_2 複合多層膜
- 高Q値を示すCoFeSiB/SiO_2複合多層膜磁心の磁気特性
- 薄膜インダクタを用いたLCフィルタとマイクロ電源
- マイクロ電源に用いる極薄マイクロ磁心の開発
- 142 マイクロDC/DCコンバータ用インダクタの素子構成(マイクロエネルギー/精密機器マイクロメカトロニクス)
- GIGSマイクロ磁気センサ
- ナノグラニュラー・イン・ギャップ磁界センサ : GIGS
- マイクロインダクタ用連続軟磁性体シート
- ナノグラニュラー・イン・ギャップ(GIG)磁気センサ
- ナノグラニュラーインギャップ(GIG)膜による磁気抵抗効果の高感度化 : 高感度マイクロ磁気センサへの応用の可能性
- マイクロDC/DCコンバータ用インダクタのQ値と素子構成
- 高電気抵抗軟磁性膜を用いた高周波インダクタ
- 薄膜3段LCバンドパスフィルタの特性
- 薄膜インダクタを用いたLCフィルタとマイクロ電源
- 薄膜3段LCバンドパスフィルタの特性
- 高電気抵抗軟磁性膜を用いた高周波インダクタ
- 多層膜化した高電気抵抗軟磁性膜を用いた薄膜インダクタ
- 薄膜インダクタの性能指数と薄膜磁心の損失係数との相関
- 薄膜インダクタの高効率化
- 高電気抵抗軟磁性膜を用いた微細形状磁心の磁気特性
- 薄膜インダクタの性能向上と磁性薄膜特性の関係
- MHz帯平面スパイラルインダクタの高性能化
- 数MHz帯駆動薄膜トランスの高性能化
- MHz帯平面スパイラルインダクタの設計と試作
- フリップインダクタの開発
- 非晶質Co系合金多層膜の高周波特性
- 薄膜インダクタ高Q化のための微細加工と磁心特性
- CoFeSiB/SiO_2多層膜を用いた3段LC ・ローパスフィルタ特性 (センサ)
- CoFeSiB/SiO_2多層膜を用いた薄膜LCフィルタの特性
- 広帯域薄膜EMIフィルタ
- TMR型磁気センサGIGSのMR特性におよぼすグラニュラー薄膜組成の影響