CoFeSiB/SiO_2多層膜を用いた薄膜LCフィルタの特性
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概要
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- 1997-01-30
著者
-
佐藤 由郎
戸田工業
-
白川 究
電気磁気材料研究所
-
菅原 英州
(株)トーキン、技術開発本部
-
白川 究
(財)電気磁気材料研究所
-
増本 健
(財)電気磁気材料研究所
-
菅原 英州
NECトーキン株式会社
-
佐藤 由郎
(株)トーキン商品開発研究所
-
佐藤 由郎
(株)トーキン
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