李 衛東 | トーキン

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概要

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• トーキンの論文著者

関連著者

• 李 衛東

  トーキン

• 島田 寛

  東北大学科学計測研究所 磁気機能計測研究分野

• 李 衛東

  東北大学科学計測研究所

• 島田 寛

  東北大学科学計測研究所

• 末沢 健吉

  東北大学電気通信研究所

• 山口 正洋

  東大 大学院医学系研究科

• 田邊 信二

  三菱電機株式会社先端技術総合研究所

• 末永 健吉

  東北大学通研

• 高橋 祐一

  東北学院大学工学部

• 田邉 信二

  三菱電機株式会社先端技術総合研究所

• 伊東 健治

  三菱電機株式会社

• 伊東 健治

  三菱電機株式会社先端技術総合研究所

• 島田 寛

  東北大科研

• 李 衛東

  東北大科研

• 北上 修

  東北大学科学計測研究所

• 白川 究

  電気磁気材料研究所

• 白川 究

  財団法人電気磁気材料研究所

• 伊東 健治

  三菱電機株式会社情報技術総合研究所

• 菊地 新喜

  東北学院大学工学部

• 菊地 新喜

  東北学院大学

• 増本 健

  電気磁気材料研究所

• 荒井 賢一

  東北大学電気通信研究所

• 山口 正洋

  東北大通研

• 荒井 賢一

  東北大通研

• 北上 修

  東北大科研

• 白川 究

  電磁研

• 増本 健

  電磁研

• 李 衛東

  (株)トーキン、技術開発本部

• 菅原 英州

  トーキン

• 末沢 健吉

  東北大通研

• 菅原 英州

  NECトーキン株式会社

• 島田 寛

  東北大学大学院工学研究科

• 増本 健

  財団法人電気磁気材料研究所

• 田邉 信二

  三菱電機株式会社 先端技術総合研究所

• 熱海 浩二

  東北学院大

• 末沢 健吉

  東北大学通研

• 山口 正洋

  東北大学通研

• 荒井 賢一

  東北大学通研

• 加藤 和照

  三井金属鉱業株式会社総合研究所

• 田邊 信二

  三菱電機(株)

• 田邉 信二

  三菱電機株式会社

• 鈴木 秀夫

  (株)トーキン、技術開発本部

• 山口 正洋

  東北大学電気通信研究所

• 佐藤 正博

  (株)トーキン、技術開発本部

• 佐藤 正博

  トーキン

• 鈴木 秀夫

  トーキン

• 伊藤 健治

  三菱電機(株)

• 桜井 伴明

  東北大学多元物質科学研究所

• 加藤 和照

  三井金属鉱業(株)総合研究所

• 山口 正洋

  東北大学大学院工学研究科電気・通信工学専攻

• 北上 修

  東北大学多元物質科学研究所

• 石山 和志

  東北大学電気通信研究所

• 北上 修

  東北大多元研

• 北上 修

  東北大学 多元研

• 島田 寛

  東北大多元研

• 山田 興治

  埼玉大学工学部機能材料工学科

• 山田 興治

  埼玉大学工学部

• 伊藤 哲夫

  Necトーキン(株)

• 大槻 悦夫

  トーキン

• 伊藤 哲夫

  東北学院大学大学院工学研究科

• 加茂 芳邦

  東北学院大学工学部

• 吉原 章

  石巻専修大理工

• 山口 正洋

  東北大学

• 白川 究

  (財)電気磁気材料研究所

• 若生 直樹

  トーキン

• 荒井 賢一

  東北大学

• 島田 寛

  東北大

• 李 衛東

  東北大多元研

• 田邊 信二

  三菱電機先端技術総合研究所

• 伊東 健治

  三菱電機先端技術総合研究所

• 桜井 伴明

  東北大学科学計測研究所

• 田辺 信二

  三菱電機(株)

• 桜井 伴明

  東北大科研

• 高田 政宏

  三菱電機

• 若生 直樹

  Necトーキン株式会社

• 若生 直樹

  Necトーキン(株)技術開発本部

• 島田 寛

  東北大学

• 吉原 章

  石巻専修大 理工

• 加茂 芳邦

  東北学院大学工学部電気情報工学科

• 猪 義博

  トーキン

• 加藤 和照

  三井金属総研

• 北上 修

  東北大学 多元物質科学研究所

• 北上 修

  東北大学

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著作論文

• 光磁気記録磁界変調用薄膜マイクロコイル
• F-1326 光磁気記録磁界変調用薄膜マイクロコイルの開発(S49-2&S48 マイクロエネルギー(2)/精密機器マイクロメカトロニクス)(S49 マイクロエネルギー)
• Fe-Al-Oグラニュラー膜のスピン波ブリルアン散乱
• NiFe-酸化物複合膜の透磁率と電気抵抗
• Si-MMIC用GHz帯磁性薄膜インダクタの低損失化
• Fe-Al-Oグラニュラ膜の微細パターン化による磁気特性の制御
• 高抵抗軟磁性Fe-Al-Oグラニュラー膜の磁区構造
• 携帯機器用GHz駆動薄膜インダクタの試作
• Si-MMIC用GHz帯磁性薄膜インダクタの低損失化
• Fe-Al-Oグラニュラ膜の微細加工による磁気特性の制御
• 高抵抗軟磁性Fe-Al-Oグラニュラー膜の磁区構造
• Fe-Al-Oグラニュラー膜の微細パターン化による磁気特性の制御と薄膜インダクタへの適用
• Si-MMIC用薄膜インダクタにおける磁性膜の異方性制御と低損失化
• 高抵抗軟磁性Fe-Al-Oグラニュラー膜の磁気異方性
• 高電気抵抗軟磁性グラニュラー膜の高周波特性
• 携帯機器用GHz駆動磁性薄膜インダクタ
• グラニュラー高電気抵抗膜の磁気異方性と高周波損失
• 高抵抗軟磁性グラニュラー膜の磁気異方性
• 高抵抗軟磁性グラニュラー膜の高周波特性
• 高抵抗グラニュラー膜の高周波特性
• 高抵抗Fe-Al-O薄膜の透磁率特性
• 高抵抗Fe-Al-O薄膜の透磁率特性
• 微細パターン化による磁性膜の高周波磁気特性の制御
• 126 マイクロ DC・DC コンバータ用高 Q CoFeSiB/SiO_2 複合多層膜
• 142 マイクロDC/DCコンバータ用インダクタの素子構成(マイクロエネルギー/精密機器マイクロメカトロニクス)
• Fe-(B, Al)-(N, O)スパッタ膜の結晶化過程, 電気抵抗と軟磁性

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