末沢 健吉 | 東北大通研
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概要
関連著者
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山口 正洋
東北大通研
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荒井 賢一
東北大通研
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島田 寛
東北大科研
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末沢 健吉
東北大学電気通信研究所
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山口 正洋
東大 大学院医学系研究科
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田邊 信二
三菱電機株式会社先端技術総合研究所
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末沢 健吉
東北大通研
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末永 健吉
東北大学通研
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田邉 信二
三菱電機株式会社先端技術総合研究所
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伊東 健治
三菱電機株式会社
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伊東 健治
三菱電機株式会社先端技術総合研究所
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伊東 健治
三菱電機株式会社情報技術総合研究所
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高橋 祐一
東北学院大学工学部
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菊地 新喜
東北学院大学工学部
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東北大・通研
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李 衛東
トーキン
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李 衛東
東北大科研
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菊地 新喜
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茂泉 孝
東北学院大
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馬場 誠
東北大通研
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芳賀 昭
東北学院大
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熱海 浩二
東北学院大
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芳賀 昭
東北学院大学
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伊東 健治
三菱電機
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田邉 信二
三菱電機株式会社 先端技術総合研究所
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田邉 信二
三菱電機(株)材料デバイス研究所
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伊藤 健治
三菱電機(株)
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田邊 信二
三菱電機(株)
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田邉 信二
三菱電機(株)
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田邉 信二
三菱電機株式会社
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田邉 信二
三菱電機
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田辺 信二
三菱電機(株)
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高田 政宏
三菱電機
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菊池 新喜
東北学院大学工学部
著作論文
- 携帯機器用GHz駆動薄膜インダクタの試作
- Si-MMIC用GHz帯磁性薄膜インダクタの低損失化
- Si-MMIC用薄膜インダクタにおける磁性膜の異方性制御と低損失化
- 携帯機器用GHz駆動磁性薄膜インダクタ
- 二方向パターン化膜を用いたRF集積化インダクタ
- RF集積化インダクタにおける二方向マイクロパターン化膜の効果
- 微細パターン化磁性膜と平坦化処理プロセスを適用したRF集積化インダクタ
- CoNbZr薄膜を用いたGHz帯薄膜インダクタ