UHVスパッタにより作製したFeCo薄膜の軟磁性と単磁極ヘッドへの応用(画像記録装置および一般)
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概要
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UHVマグネトロンスパッタ装置で製膜した極めて結晶配向性の高いNiFe/FeCo/NiFe高飽和磁化膜の軟磁性と構造について検討を行った.その結果,下層のNiFe膜はFeCo膜の構造を制御するシード層として軟磁気特性の導出に寄与しており,その厚みは3nmでも十分であること,また,高飽和磁化と軟磁性を両立するFeCo膜の厚みは約100nmであることが明らかになった.FeCo膜とNiFe膜を交互に積層した膜を主磁極とするバルクコイル励磁型コンタクト式単磁極ヘッドを試作した結果,CoZrNbアモルファス膜を用いたヘッドと同程度の記録感度を有し,且つそれより優れたオーバーライト特性を示した.
- 2002-01-17
著者
-
村岡 裕明
東北大学電気通信研究所
-
島津 武仁
東北大学電気通信研究所
-
中村 慶久
東北大学電気通信研究所
-
渡辺 功
東北大学電気通信研究所
-
片田 裕之
東北大通研:日立
-
片田 裕之
東北大学電気通信研究所
-
高橋 正晴
東北大学電気通信研究所
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