松下 正 | Kek
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
松下 正
Kek
-
大柳 宏之
電総研
-
松下 正
高エ研
-
松下 正
Kek-pf
-
石黒 武彦
電総研
-
高良 和武
KEK
-
徳本 圓
電総研
-
石黒 武彦
京大理:crest(科技団)
-
黒田 晴雄
東大理
-
根本 宏明
筑波大
-
白川 英樹
筑波大
-
白川 英樹
筑波大物質
-
松下 正
東大工
-
楠 正美
明大理工物理
-
井上 頼直
理研光合成科学
-
小野 高明
理研
-
黒田 晴雄
東大理、新技術開発事業団
-
白川 英樹
筑波大・工
-
白川 英樹
内閣府総合科学技術会議
-
山口 博隆
電総研
-
村田 恵三
電総研
-
松下 正
高エネルギー加速器研究機構物質構造科学研究所
-
木村 錫一
電総研
-
大柳 宏之
通商産業省工業技術院電子技術総合研究所電子基礎部
-
楠 正美
明大工
-
石田 秀信
島津製作所
-
黒田 晴雄
新技術事業団
-
木村 錫一
愛媛大工
-
小野 高明
理研太陽光科学
-
井上 頼直
理研太陽光科学
-
松下 正
東大・工
-
木村 錫一
愛媛大
-
神長 宇享
高エ研:理学電機
-
松下 正
高エネルギー加速器研究機構
-
西原 美一
電総研
-
坂田 誠
名大工
-
松下 正
高エ研放射光
-
渡辺 洋右
東北大金研
-
山口 博隆
産総研
-
原田 仁平
名大工
-
橋本 真也
東北大金研
-
岩崎 博
東北大金研
-
坂本 邦博
電総研
-
坂本 統徳
電総研
-
石川 哲也
KEK-KF
-
八百 隆文
電総研
-
西郷 敏
自治医大・物理
-
小野 高明
理研・太陽光科学
-
井上 頼直
理研
-
高良 和武
高工研
-
井上 頼直
理研・植物薬理
-
中島 哲夫
Kek
-
高良 和武
東大・工
-
松下 正
KFK PF
-
Hodgson K.o.
Stanford大
-
高良 和武
東京大学工学部
-
松下 正
東京大学工学部
-
楠 正美
明大理工・物理
-
西郷 敏
自治医大・生理・生物物理
-
西郷 敏
自治医大
-
Stephenson G.b.
Ssrl
-
Phizackery R.P.
SSRL
-
Rek Z.U.
SSRL
-
Conradson S.D.
Stanford大
-
寺内 暉
関学大理
-
楠 正美
明大理工
-
北村 英男
理研・播磨研
-
村田 恵三
阪市大院理
-
寺内 暉
関学大理工
-
北村 英男
原研
-
北村 英男
Spring-8
-
石川 哲也
東大工
-
安藤 正海
KEK
-
岡 邦彦
電総研
-
鵜木 博海
電総研
-
石川 哲也
KEK-PF
-
伊藤 正久
理研
-
坂田 誠
名大・工
-
中島 哲夫
KEK-PF
-
高良 和武
東大工
-
大嶋 建一
名大工
-
岩崎 博
高エネルギー物理学研究所 放射光実験施設
-
寺田 教男
鹿児島大工:電総研:crest
-
中島 哲夫
高エ研・放射光
-
大嶋 健一
名大工
-
伊原 英雄
電総研
-
渡辺 洋右
東北大学金属材料研究所
-
石村 巽
慶大・医
-
石村 巽
慶大医
-
八百 隆文
広島大工
-
野口 巧
理研
-
小早川 久
Pf-kek
-
小早川 久
Kek
-
大嶋 健一
筑波大物工
-
鎌田 進
PF-KEK
-
北村 英男
KEK
-
鎌田 進
KEK
-
平林 正之
電総研
-
寺田 教男
電総研
-
楠 正美
明治大理工物理
-
飯塚 哲太郎
慶大医
-
中山 貫
計量研究所アボガドロ・グループ
-
松下 正
高工研
-
安藤 正梅
Kek-pf
-
鵜木 博海
電子技術総合研究所
-
鎌田 進
高エネルギー物理学研究所放射光実験施設 Mr超高輝度放射光計画推進室
-
鎌田 進
高エネ研
-
鎌田 進
高エネルギー加速器研究機構加速器研究施設
-
鎌田 進
高エ研pfmr超高輝度放射光計画推進室
-
松原 俊哉
旭硝子(株)
-
伊原 英男
電総研
-
佐々木 泰三
KEK
-
佐々木 泰三
高工研
-
石田 秀信
東大工
-
牧野 龍
慶大医
-
木原 裕
自治医大
-
中山 貫
計量研
-
神長 宇享
東大工
-
平間 仁章
宇都宮大
-
小原 晴彦
電総研
-
田村 典明
理研フロンティア
-
高良 和武
東大.工
-
神長 宇享
理学電機
-
神長 宇享
東大・工
-
石田 秀信
東大・工
-
松下 正
東大.工
-
松下 正
東大 工学部
-
高良 和武
東大 工学部
-
高良 和武
東京大学
-
橋本 真也
原研
-
松原 俊哉
旭硝子 中研
-
石田 秀信
東京大学工学部
-
田村 典明
富山大・理
著作論文
- 11p-T-8 X線異常散乱を用いたCu_2NiZn合金の短範囲規則の測定
- 5a-B5-14 超高輝度放射光源としてのトリスタンMR
- 27p-PS-44 Ba_2YCu_3O_yのEXAFS : 酸素濃度依存性
- 26p-D-10 光合成酸素発生系のS_0, S_1, S_2, S_3状態MnクラスターによるX-線 K-吸スペクトル
- 12a-Q-5 臭素をドープしたポリアセチレンの偏光依存EXAFS
- 1a-N-6 螢光XANESによるミオグロビンのスピン平衡
- 30a-D-11 表面敏感EXAFSによる単原子界面層の構造解析 (I) : Si/Ge/Si
- 2p-KK-11 EXAFS迅速測定法IV : 溶液反応の時分割観測の試み
- 2Fa02 光合成酸素発生系における Mn クラスターの分子構造解析 : 高分解館 XANES による解析
- 5a-X-9 光合成における水分解系Mnクラスターの構造 : 蛍光XANES法から
- 5p-PS-30 FeをドープしたYBa_2Cu_3O_yの局所構造
- 5a-D3-1 La_2CuO_4単結晶の偏光XANES
- 1Cp09 蛍光XANES法による酸素発生系Mnの存在状態に関する研究 : II. 光活性化と33kD蛋白質遊離に伴う変化
- 1Cp08 蛍光XANES法による酸素発生系Mnの存在状態に関する研究 : I. S_0, S_1及びS_2状態におけるMnの個数と価数
- 3a-P-7 臭素およびヨウ素をドープしたポリアセチレンの構造
- 4p-YA-6 臭素をドープしたポリアセチレンの偏光X線吸収スペクトルIII : XANES
- 4p-YA-5 ヨウ素をドープしたポリアセチレンの偏光X線吸収スペクトルI : EXAFS
- 2p-KK-10 放射光を利用した蛍光EXAFS測定装置の開発と応用
- 2a-KD-8 臭素をドープしたポリアセチレンの偏光EXAFS II : 濃度依存性
- 光素子用材料評価技術の研究--シンクロトロン放射光を用いたEXAFS実験 (光応用計測制御システムの研究開発特集) -- (光要素共通技術の研究)
- EXAFS(X線吸収微細構造)の最近の進歩(技術ノ-ト)
- 1p-M-14 Ray-tracingによる放射光用収束光学系の検討
- 3a-AD-2 彎曲結晶モノクロメーターの反射曲線の測定
- 31a-BF-11 X線光学系の新しい解析法 (DuMond 図形と位相空間光学の併用)
- 複結晶配置による単結晶の完全性の評価(Growth and Characterization of Silicon Crystals)
- 4p-L-5 不純物を多く含むシリコン単結中の転位のX線平面波像
- X線光学とその応用 (フォトン・ファクトリ-計画)
- 4p-P-7 三結晶法によるGeの構造因子の精密測定
- 1p-E-8 X 線用の単結晶モノクロ・コリメーター
- 9a-D-10 ブラッグ角が90°の場合の回折現象
- 1p-M-12 放射光を用いた高速EXAFS測定法II
- 1p-M-11 放射光を用いた高速EXAFS測定法I
- X線光学とその応用
- X線異常散乱を利用した単結晶散漫散乱強度の成分分離
- 10p-Z-7 光学系
- ミクロ構造を調べる--X線分光 (フォトン・ファクトリ-)
- 2p-D4-6 ヨウ素をドープしたポリアセチレンの偏光X線吸収スペクトル : II. XANES(2p D4 分子性結晶・液晶・有機半導体,分子性結晶・有機半導体・液晶)
- 28a-G-8 Si/Ge超格子の表面敏感EXAFS(28aG 半導体(表面・界面・超格子))