1p-M-14 Ray-tracingによる放射光用収束光学系の検討
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
-
4a-TA-4 Au/Ni人工格子のsupermodulus Effect
-
5a-B5-11 大強度放射光用直接水冷型2結晶モノクロメーター
-
28p-E-5 金属人工格子Ni/Moの圧力効果
-
28p-H-3 集光型2結晶モノクロメーター
-
1p-S-5 高角入射条件下でのSi(111)√×√Bi構造によるX線回折の観測
-
11p-T-11 フォトンファクトリー低温X線回折ゴニオメータの建設
-
11p-T-8 X線異常散乱を用いたCu_2NiZn合金の短範囲規則の測定
-
2p-M-16 人工多層膜からの反射X線の角度分布
-
5a-B5-14 超高輝度放射光源としてのトリスタンMR
-
12p-T-1 PF精密X線光学実験装置 : I概要
-
5a-B5-8 イメージングプレートを用いたストリークカメラ法による高速X線回折
-
31p GK-5 全反射X線の角度分布測定による鏡面の評価
-
27p-PS-44 Ba_2YCu_3O_yのEXAFS : 酸素濃度依存性
-
26p-D-10 光合成酸素発生系のS_0, S_1, S_2, S_3状態MnクラスターによるX-線 K-吸スペクトル
-
31a-BF-9 Si単結晶中の積層欠陥の平面波X線トポグラフィ
-
10a-Z-5 転位の歪場の表面緩和の平面波X線トポグラフィ
-
12a-Q-5 臭素をドープしたポリアセチレンの偏光依存EXAFS
-
1a-N-6 螢光XANESによるミオグロビンのスピン平衡
-
30a-D-11 表面敏感EXAFSによる単原子界面層の構造解析 (I) : Si/Ge/Si
-
31p GK-8 EXAFS迅速測定のための光学及び検出系
-
2p-KK-11 EXAFS迅速測定法IV : 溶液反応の時分割観測の試み
-
23pWK-5 多波長同時分散光学系を用いたトランケーションロッドの測定III(23pWK X線・粒子線(X線),領域10(誘電体格子欠陥,X線・粒子線フォノン))
-
28aYK-9 多波長同時分散光学系を用いたトランケーションロッドの測定II(X線・粒子線(X線),領域10,誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)
-
28pRE-9 多波長同時分散X線光学系を用いた結晶トランケーションロッドの測定(28pRE 領域10,領域5合同 X線・粒子線(X線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
-
2Fa02 光合成酸素発生系における Mn クラスターの分子構造解析 : 高分解館 XANES による解析
-
5a-X-9 光合成における水分解系Mnクラスターの構造 : 蛍光XANES法から
-
5p-PS-30 FeをドープしたYBa_2Cu_3O_yの局所構造
-
5a-D3-1 La_2CuO_4単結晶の偏光XANES
-
1Cp09 蛍光XANES法による酸素発生系Mnの存在状態に関する研究 : II. 光活性化と33kD蛋白質遊離に伴う変化
-
1Cp08 蛍光XANES法による酸素発生系Mnの存在状態に関する研究 : I. S_0, S_1及びS_2状態におけるMnの個数と価数
-
3a-P-7 臭素およびヨウ素をドープしたポリアセチレンの構造
-
4p-YA-6 臭素をドープしたポリアセチレンの偏光X線吸収スペクトルIII : XANES
-
4p-YA-5 ヨウ素をドープしたポリアセチレンの偏光X線吸収スペクトルI : EXAFS
-
2p-KK-10 放射光を利用した蛍光EXAFS測定装置の開発と応用
-
2a-KD-8 臭素をドープしたポリアセチレンの偏光EXAFS II : 濃度依存性
-
光素子用材料評価技術の研究--シンクロトロン放射光を用いたEXAFS実験 (光応用計測制御システムの研究開発特集) -- (光要素共通技術の研究)
-
EXAFS(X線吸収微細構造)の最近の進歩(技術ノ-ト)
-
1p-M-14 Ray-tracingによる放射光用収束光学系の検討
-
3a-AD-2 彎曲結晶モノクロメーターの反射曲線の測定
-
31a-BF-11 X線光学系の新しい解析法 (DuMond 図形と位相空間光学の併用)
-
複結晶配置による単結晶の完全性の評価(Growth and Characterization of Silicon Crystals)
-
4p-L-5 不純物を多く含むシリコン単結中の転位のX線平面波像
-
X線光学とその応用 (フォトン・ファクトリ-計画)
-
4p-P-7 三結晶法によるGeの構造因子の精密測定
-
1p-E-8 X 線用の単結晶モノクロ・コリメーター
-
9a-D-10 ブラッグ角が90°の場合の回折現象
-
29p-E-11 α-^Fe_2O_3 結晶の育成・評価と核ブラッグ散乱反射率
-
5p-TA-2 SRX線のα-^Fe_2O_3結晶における核共鳴ブラッグ散乱
-
結晶によるX線γ線の回折と角度の精密測定
-
3011 標準色の選定に関する研究(計画)
-
27p-L-2 シンクロトロン放射を用いた高速EXAFS測定法
-
29p-E-13 二結晶法を用いたα-^Fe_2O_3からの核共鳴ブラッグ散乱
-
29p-E-12 AR-NE3における核共鳴散乱の時間スペクトルおよび吸収スペクトル
-
1p-U-6 シンクロトロン放射光を用いてのX線吸収スペクトルの高速測定
-
1p-M-12 放射光を用いた高速EXAFS測定法II
-
1p-M-11 放射光を用いた高速EXAFS測定法I
-
X線光学とその応用
-
X線異常散乱を利用した単結晶散漫散乱強度の成分分離
-
23aJA-8 多波長同時分散型CTR散乱法の時分割測定への応用(23aJA X線・粒子線(X線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
-
23aJA-7 ラウエケースのX線CTR散乱(23aJA X線・粒子線(X線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
-
三結晶ディフラクトメーターによる回折強度曲線の測定 : X線粒子線
-
高性能X線モノクロメーター : X線粒子線
-
10p-Z-7 光学系
-
ミクロ構造を調べる--X線分光 (フォトン・ファクトリ-)
-
タイトル無し
-
25pEA-2 イオン液体-金界面に於ける電気二重層形成の時分割観察(電界効果,領域8,領域7合同,領域7(分子性個体・有機導体))
-
2p-D4-6 ヨウ素をドープしたポリアセチレンの偏光X線吸収スペクトル : II. XANES(2p D4 分子性結晶・液晶・有機半導体,分子性結晶・有機半導体・液晶)
-
1a-A3-2 人工多層膜からの反射X線の角度分布(II)(31p A3 X線・粒子線,X線・粒子線)
-
28a-G-8 Si/Ge超格子の表面敏感EXAFS(28aG 半導体(表面・界面・超格子))
もっと見る
閉じる
スポンサーリンク