Yoshikawa Akira | Ntt Lsi Laboratories

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概要

• 同名の論文著者
• Ntt Lsi Laboratoriesの論文著者

関連著者

• Yoshikawa Akira

  Ntt Lsi Laboratories

• 吉川 彰

  東北大学多元物質科学研究所

• Fukuda T

  Gunma Univ. Gunma Jpn

• 福田 承生

  東北大学 多元物質科学研究所

• Fukuda Tsuguo

  Optoelectronics Joint-research Laboratory

• Fukuda T

  National Inst. Advanced Industrial Sci. And Technol. Hokkaido Center Sapporo Jpn

• YOSHIKAWA Akihiko

  Department of Electronics and Mechanical Engineering, Chiba University

• Yoshikawa Akihiko

  Department Of Electrical And Electronics Engineering Chiba University

• 宍戸 統悦

  東北大金研

• 宍戸 統悦

  東北大学金属材料研究所

• 福田 承生

  東北大学金属材料研究所

• 堀内 弘之

  弘前大学教育学部地学研究室

• 堀内 弘之

  弘前大学教育学部

• 堀内 弘之

  東大理

• Fukuda Tsuguo

  Institute Of Multidisciplinary Research For Advanced Materials (imram) Tohoku University

• 堀内 弘之

  弘前大 教育

• Fukuda T

  Waseda Univ. Tokyo Jpn

• Fukuda T

  Tohoku Univ.

• Fukuda Tsuguo

  Institute Of Multidisciplinary Research For Advanced Materials Tohoku University

• YOSHIKAWA Akira

  Institute for Materials Research, Tohoku University

• Kobayashi Masakazu

  Department of Cardiology, Nagoya University Graduate School of Medicine

• Kobayashi Masakazu

  Departmdepartment Of Cardiology Nagoya University Graduate School Of Medicine

• Kobayashi M

  Mitsubishi Electric Corp. Hyogo Jpn

• 田中 雅彦

  物材機構

• 葉 金花

  物質研

• 吉川 彰

  東北大学金属材料研究所

• 岡田 茂

  東京大学大学院農学生命科学研究科

• OKADA Shigeru

  Department of Anti-Aging Food Sciences, Dentistry and Pharmaceutical Sciences, Okayama University Gr

• Yoshikawa Akira

  Institute Of Multidisciplinary Research For Advanced Materials Tohoku University

• SHISHIDO Toetsu

  Institute for Materials Research (IMR), Tohoku University

• Okada Shigeru

  Department Of Anti-aging Food Sciences Dentistry And Pharmaceutical Sciences Okayama University Grad

• YE Jinhua

  National Institute for Materials Science

• Sasaki Takahiko

  Institute For Materials Research(imr) Tohoku University

• YAMAGA Shigeki

  Department of Electrical and Electronics Engineering, Chiba University

• KASAI Haruo

  Department of Electrical and Electronics Engineering, Chiba University

• 工藤 邦男

  神奈川大工

• 菅原 孝昌

  東北大学金属材料研究所

• 葉 金花

  独立行政法人 物質・材料研究機構 エコマテリアル研究センター

• 小原 和夫

  東北大学金属材料研究所

• 工藤 邦男

  神奈川大学工学部機械工学科

• 吉川 彰

  東北大金研

• 葉 金花

  金属材料技術研究所

• KAWAZOE Yoshiyuki

  Institute for Materials Research, Tohoku University

• 工藤 邦男

  神奈川大学工学部応用化学科

• 工藤 邦男

  神奈川大学 工学部 機械工学科

• NAKAJIMA Kazuo

  Institute for Materials Research (IMR), Tohoku University

• Kohiki S

  Kyushu Inst. Of Technol. Kitakyushu Jpn

• Kohiki Shigemi

  Faculty Of Engineering Kyushu Institute Of Technology

• Kohiki Shigemi

  Kochi National College Of Technology

• OKU Masaoki

  Institute for Materials Research, Tohoku University

• KUDOU Kunio

  Department of Mechanical Engineering, Kanagawa University

• TOSAKA Hiroyuki

  Department of Electrical and Electronics Engineering, Chiba University

• Kohiki Shigemi

  Department Of Materials Science Kyusyu Institute Of Technology

• Shishido T

  Institute For Materials Research Tohoku University

• Kawazoe Y

  Institute For Materials Research Tohoku University

• Oku M

  Tohoku Univ. Sendai

• Nakajima Kensuke

  Research Institute Of Electrical Communication Tohoku University

• Ogawa Makoto

  Faculty Of Engineering Tokyo Institute Of Polytechnics

• 福田 承生

  東北大金研

• 島村 清史

  早稲田大学各務記念材料技術研究所

• 島村 清史

  東北大金研

• 福田 承生

  東北大・金研

• 田中 雅彦

  高エネルギー加速器研究機構・物質構造科学研究所・放射光実験施設

• 田中 雅彦

  KEK

• 岡田 繁

  国士舘大学理工学部理工学科

• Takahashi K

  Department Of Physical Electronics Tokyo Institute Of Technology

• 福田 承生

  東北大学多元物質科学研究所

• 鏡谷 勇二

  東北大学多元物質科学研究所

• 吉川 彰

  東北大・金研

• 和久 芳春

  (株)超高温材料研究所

• FUKUDA Tsuguo

  Institute for Materials Research, Tohoku University

• 河合 良信

  九大総理工

• 堀内 弘之

  東京大学理学系研究科

• 堀内 敏行

  東京電機大学工学部

• Takahashi K

  National Inst. Res. In Inorganic Materials Ibaraki Jpn

• 島村 清史

  NIMS

• Kawai Yoshinobu

  Welding Research Institute Osaka University

• Epelbaum B.m.

  エルランゲン大

• 吉川 彰

  東京大学理学系研究科鉱物学専攻

• OZAKI Yoshiharu

  NTT LSI Laboratories

• KAWAI Yoshio

  NTT LSI Laboratories

• TAKAHASHI Kaoru

  Department of Applied Physics, Tokyo University of Agriculture and Technology

• Itoh Kikuo

  Faculty Of General Education Kumamoto University

• Kohiki Shigemi

  Department Of Applied Chemistry Faculty Of Engineering Kyushu Institute Of Technology

• IIZUMI Kiyokata

  Faculty of Engineering, Tokyo Institute of Polytechnics

• ISHIZAWA Yoshio

  Department of Materials Science, Iwaki Meisei University

• HIGASHI Iwami

  Department of Chemistry, Chiba Institute of Technology

• TAKAHASHI Kiyoshi

  Department of Medicine, National Minami-Okayama Hospital

• Takahashi Kiyoshi

  Department Of Internal Medicine Ii Okayama University Graduate School Of Medicine And Dentistry

• Matsumoto S

  Faculty Of Science And Technology Keio University

• Matsumoto Satoru

  Department Of Electronics And Electrical Engineering Keio University

• MATSUMOTO Shigeyuki

  Department of Electrical and Electronics Engineering, Faculty of Engineering, Chiba University

• YOSHIDA Takashi

  Advanced Technology Centre, Semiconductor Division, New Japan Radio Co., Ltd.

• ISHIYAMA Toshihiko

  NTT LSI Laboratories

• Takahashi K

  Department Of Physical Electronics Tokyo Institute Of Tecnology

• Ishizawa Yoshio

  National Institute For Research In Inorganec Materials

• Ishizawa Yoshio

  Institute Of Geoscience The University Of Tsukuba

• Isizawa Yoshio

  National Institute For Research In Inorganic Materials

• Kawazoe Yoshiyuki

  Inst. For Materials Res. Tohoku Univ.

• Takahashi K

  Tokyo Inst. Technol. Yokohama Jpn

• Itoh Kimitaka

  Plasma Physics Laboratory Kyoto University

• HASHIMOTO Tatsunori

  Department of Electronics, Kyushu University

• Horiuchi Hiroyuki

  Department Of Biotechnology University Of Tokyo

• Horiuchi Hiroyuki

  Earth Science Laboratory Faculty Of Education Hirosaki University

• Horiuchi Hiroyuki

  Laboratory Of Cellular Genetics Department Of Biotechnology Division Of Agriculture And Agricultural

• Horiuchi Hiroyuki

  Department Of Agricultural Chemistry The University Of Tokyo

• Takahashi Kensuke

  Department Of Electrical And Electronic Engineering Musashi Institute Of Technology

• Takahashi Kuniharu

  Graduate School Of Science And Technology Niigata University

• Ishiyama Toshihiko

  Ntt Integrated Information & Energy Systems Laboratories

• Takahashi Kazuhiko

  National Research Institute For Metals Tsukuba Laboratories:sanyo Elect. Co. Ltd.

• Takahashi Kouchiro

  National Institute For Research In Inorganic Materials

• Takayama Tomoo

  Department Of Metallurgy Kyoto University

• Hashimoto T

  Department Of Chemistry For Materials Faculty Of Engineering Mie University

• 大石 修治

  信州大学工学部環境機能工学科

• 田中 雅彦

  高エネ研

• 田中 仁

  京大エネ

• 吉川 彰

  東北大多元研

• 福田 承生

  東北大多元研

• 奥 正興

  東北大金研

• 大石 修治

  信州大工

• 中嶋 一雄

  東北大金研

• 戸澤 慎一郎

  東北大金研

• 亀頭 直樹

  豊橋技科大工

• 花田 修治

  東北大学 金属材料研究所

• 花田 修治

  東北大学金属材料研究所

• 奥 正興

  東北大・金研

• 山内 宏

  東北大金研

• 堀内 弘之

  弘前大教育

• 奥 正興

  東北大学金属材料研究所

• 山内 宏

  東北大学金属材料研究所

• Sasaki Takahiko

  Institute for Materials Research, Tohoku University

• 村山 洋之介

  東北大学金属材料研究所

• LEE Jong

  Korea Institute of Industrial Technology

• 中井 宗紀

  東大大学院地惑

• 杉山 和正

  東大大学院地惑

• 田中 正彦

  高エネ研PF

• 町田 憲一

  阪大先端セ

• Durand A.

  東北大・金研

• Lebbou K.

  東北大・金研

• Chani V.

  東北大・金研

• 長谷川 健治

  東北大・金研

• Durbin S.D.

  東北大・金研

• Epelbaun B.M.

  エルランゲン大

• 岡田 繁

  国士館大学工学部土木工学科

• EPELBAUM Boris

  Center for Interdisciplinary Research, Tohoku University

• SUZUKI Kenji

  Institute for Materials Research, Tohoku University

• WAKU Yoshiharu

  Japan Ultra-high Temperature Materials Research Center

• RUDOLPH P.

  Institute of Crystal Growth

• EPELBAUM B.M.

  Institute of Crystal Growth

• 和久 芳春

  宇部興産(株)

• 風田川 統之

  東北大金研

• 葉 金花

  科学技術庁金属材料技術研究所

• 岡田 繁

  国士舘大学理工学部

• 亀頭 直樹

  豊橋技術大

• 葉 金花

  物質・材料研究機構

• 佐々木 孝彦

  東北大学金属材料研究所

• OKAMOTO Tamotsu

  Department of Physical Electronics, Tokyo Institute of Technology

• NAGATAKE Tsuyoshi

  Department of Internal Medicine, Institute of Tropical Medicine, Nagasaki University

• 細谷 正一

  山梨大工

• HANADA Shuji

  東北大学金属材料研究所

• YOSHIDA Takashi

  Department of Pharmacognosy, Graduate School of Medicine, Dentistry and Pharmaceutical Sciences, Oka

• 花田 修治

  東北大金研

• TANAKA Masahiko

  Photon Factory, Institute of Materials Structure Science, High Energy Accelerator Research Organizat

• 山内 宏

  東北大

• 鄭 玉桐

  東北大学金属材料研究所

• 堀内 弘之

  東京大学大学院理学系研究科鉱物学教室

• 吉川 彰

  東京大学大学院理学系研究科鉱物学教室

• 細谷 正一

  山梨大学工学部無機合成研究施設

• 戸澤 慎一郎

  東北大学金属材料研究所

• 齊藤 晃宏

  東京大学大学院理学系研究科鉱物学教室

• 中川 智司

  東北大学金属材料研究所

• SUGAWARA Takamasa

  Institute for Materials Research (IMR), Tohoku University

• 斉藤 晃宏

  東京大学大学院理学系研究科鉱物学教室

• NAKAMURA Shin-ichiro

  Department of Veterinary Pathology, Nippon Veterinary Animal and Science University

• KATO Yoshinori

  Department of Pharmaceutical Sciences, Tohoku University Hospital and Division of Clinical Pharmacy,

• Suzuki K

  Institute For Materials Research Tohoku University:center For Interdisciplinary Research Tohoku Univ

• Suzuki Kenji

  Institute For Material Resezrch Tohoku University

• KUDOU Kunio

  Faculty of Engineering, Kanagawa University

• IIZUMI Kiyotaka

  Faculty of Engineering, Tokyo Institute of Polytechnics

• OISHI Shuji

  Department of Environmental Science and Technology, Faculty of Engineering, Shinshu University

• KAMEGASHIRA Naoki

  Department of Materials Science, Toyohashi University of Technology

• YAMAUCHI Hiroshi

  Institute for Materials Research, Tohoku University

• NOMURA Hiroshi

  Department of Physics, Tohoku University

• OKADA Shunji

  Nakanihon Automotive College

• OBARA Kazuo

  Instiute for Materials Reseach, Tohoku University

• OGAWA Makoto

  Faculty of Engineering, Tokyo Institute of Polytechnics

• AMAN0 Tadaaki

  Shonan Institute of Technology

• HORIUCHI Hiroyuki

  Earth Science Laboratory Faculty of Education, Hirosaki University

• KOHIKI Shigemi

  The Kyusyu Institute of Technology

• HORIUCHI Hiroyuki

  Mineralogical Institute, Faculty of Science, University of Tokyo

• Sasaki Takahiko

  National Insitute For Materials Science

• Nakajima K

  Nuclear Engineering Research Laboratory University Of Tokyo

• Nagatake Tsuyoshi

  Department Of Electrical And Electronics Engineering Chiba University

• Ishizawa Yoshio

  National Institute For Research Inorganic Materials

• Okamoto Tamotsu

  Department Of Electrical And Electronics Engineering Chiba University

• FUJIMOTO Tsuyoshi

  Department of Electrical and Electronics Engineering, Chiba University

• ONOUE Kozo

  Department of Electrical and Electronics Engineering, Chiba University

• Yoshida Takashi

  Department Of Agriculture Kyoto University

• Horiuchi Hiroyuki

  Mineralogical Institute Faculty Of Science University Of Tokyo

• Ogawa Masaru

  Optical Disk Systems Development Center Sharp Corporation

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著作論文

• マイクロ引下げ法を用いたMGC材料の開発と形状制御融液成長 (特集 新しい超耐熱材料--MGC材料の開発最前線(下))
• 水熱合成法によるZnO単結晶の作製技術 (特集1 ITO代替材料の最有力!酸化亜鉛の応用製品が未来を切り開く!!)
• 一方向凝固Al_2O_3/YAG/ZrO_2共晶複合材料の組織と高温強度
• ソルボサーマル法によるZnOバルク結晶作製とそのGaN結晶への適用(基板結晶)
• Sc_2O_3置換Al_2O_3/Y_3Al_5O_共晶体の微細組織と結晶方位
• 事例/トピックス タービンなど耐熱構造部材として期待のジオメトリックストラクチャを持つMGC材料 (特集 自動車材料の最新動向--鉄鋼・金属・セラミックス編)
• フラックス法によるLuAlO_3単結晶の常圧下合成および評価
• 不定比ペロブスカイト型化合物ErRh_3B_xの硬さ及び耐酸化性
• 新しい機能性単結晶材料の開発 (特集 機能性単結晶材料--最近話題の材料と技術の進歩)
• 23pA3 Study of ternary equilibrium diagram for crystal growth : the Na_20/Er_O/GeO_2 system
• 23aA5 YAG/sapphire共晶体ファイバーの結晶成長と共晶相の安定成長方位の選択配向性(バルク成長III)
• 不定比ペロブスカイト型化合物YRh_3B_x, YRh_3C_x及びYRh_3B_xC_のB又はC量xの変化に伴う格子定数の変化
• 不定比性プロブスカイト型化合物ScRh_3B_xの硬度と耐酸化性
• Growth of Al_2O_3/Y_3Al_5O_ Eutectic Fiber by Micro-Pulling-Down Method and Its High-Temperature Strength and Thermal Stability
• μ-PD法によるAl_2O_3/YAG共晶ファイバーの細径化と組織制御 : バルク成長III
• Cz法によるGaN用新基板材料Ca_8La_2(PO_4)_6O_2の単結晶作成と格子整合性 : バルク成長II
• 不定比性ペロブスカイト型化合物GdRh_3B_xの硬度と耐酸化性
• Cz法による紫外レーザー硝材用CaF2単結晶の作製
• アークおよびスカル溶融反応法で合成したペロブスカイト型CeGaO_3の結晶構造
• 希土類オルトアルミン酸塩のア-ク溶融法による合成
• ArF Excimer Laser Projection Lithography Using Partially Achromatized Lens System : Lithography Technology
• ArF Excimer Laser Projection Lithography Using Partially Achromatized Lens System
• KFフラックス法によるペロブスカイト型LuAlO_3単結晶の常圧合成
• Hardness and Oxidation Resistance of Perovskite-type Solid Solution of the ScRh_3B-ScRh_3C System
• Boron-Carbon Atomic Ratio Dependence on the Hardness and Oxidation Resistance of Solid Solutions of Perovskite-Type Borocarbide YRh_3B_xC_ (O ≦ x ≦ 1)
• R-Dependency of the Hardness Of Perovskite-Type RRh_3B Compounds (R = La, Gd, Lu and Sc) : Structure and Mechanical and Thermal Properties of Condensed Matter
• Solid Solution Range of Boron, Microhardness and Magnetic Properties of the Perovskite-Type GdRh_3B Obtained by Arc-melting Synthesis
• Acceptor Concentration Control of P-ZnSe Using Nitrogen and Helium Mixed Gas Plasma
• Planar-Doping of Molecular Beam Epitaxy Grown ZnSe with Plasma-Excited Nitrogen
• Nitrogen Doping of ZnSe and ZnCdSe with the Assistance of Thermal Energy and Photon Energy
• Ar Ion Laser-Assisted MOVPE of ZnSe Using DMZn and DMSe as Reactants
• Citric Acid Etching of ZnSe Surface and Application to the Homoepitaxy by Molecular Beam Epitaxy
• Atomically Flat GaAs(001) Surfaces Obtained by High-Temperature Treatment with Atomic Hydrogen Irradiation
• Reduction of Beam Divergence Angle by Low-Refractive-Index Layers Introduced to Real-Refractive-Index-Guided GaAlAs High-Power Laser Diodes
• 120 mW High-Power Low-Noise GaAlAs Multiple-Quantum-Well Laser Diodes with a New Real Refractive Index Guided Self-Aligned Structure
• Effects of photo- and Auger Electron Scattering on Resolution and Linewidth Control in SR Lithography : Lithography Technology
• Effects of Photo- and Auger Electron Scattering on Resolution and Linewidth Control in SR Lithography
• Electrical and Photoluminescence Properties of Iodine-Doped ZnSe Films Grown by Low-Pressure MOVPE : Semiconductors and Semiconductor Devices
• Photoluminescence Properties of Nitrogen-Doped ZnSe Films Grown by Low-Pressure MOVPE : Semiconductors and Semiconductor Devices
• Photoluminescence Properties of Li-Doped ZnSe Films Grown by Metalorganic Chemical Vapor Deposition : Semiconductors and Semiconductor Devices
• Characteristics of Ag-Se/Ge-Se as a Recording Medium for X-Ray Holograms

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