久保田 正文 | 松下電子工業株式会社プロセス開発センター

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• 久保田 正文

  松下電子工業株式会社プロセス開発センター

• 山中 通成

  松下電子工業株式会社プロセス開発センター

• 久保田 正文

  松下電子工業(株)

• 山中 通成

  松下電子工業(株)

• 林 重徳

  松下電器産業(株)半導体社プロセス開発センター

• 林 重徳

  松下電子工業株式会社プロセス開発センター

• 丹羽 正昭

  松下電器産業(株)半導体研究センター

• 丹羽 正昭

  松下電器産業(株)

• 丹羽 正昭

  松下電器産業(株) 中央研究所

• 原田 佳尚

  松下電器産業(株)

• 小倉 基次

  松下電子工業株式会社プロセス開発センター

• 中川 秀夫

  超先端電子技術開発機構

• 山本 和彦

  松下電器産業(株)

• 三橋 理一郎

  松下電器産業(株)

• 久保田 正文

  松下電器産業(株)

• 勝山 亜希子

  松下電器産業

• 青井 信雄

  松下電子工業(株)半導体事業本部プロセス開発センター

• 青井 信雄

  松下電子工業(株)

• 上田 哲也

  松下電子工業(株)

• 遠藤 政孝

  松下電器産業(株)

• 遠藤 政孝

  松下電子工業(株)

• 勝山 亜希子

  松下電子工業(株)

• 玉岡 英二

  松下電子工業(株)

• 丹羽 正昭

  松下電器産業 (株) 半導体研究センター

• 林 重徳

  松下電器産業(株)

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著作論文

• 誘導結合型プラズマを用いた酸化膜エッチング
• 反応性スパッタ法によるHfO_2膜の作製と電気特性評価
• 遠紫外光フラッシュ法による化学増幅型レジストの耐熱性向上
• 新複合ハードマスク法による低誘電率有機膜/Cuデュアルダマシン多層配線の形成
• 誘導結合型プラズマを用いた高選択酸化膜エッチング

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