中川 秀夫 | 超先端電子技術開発機構

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概要

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関連著者

• 中川 秀夫

  超先端電子技術開発機構

• 三坂 章夫

  松下電器産業(株)半導体研究センター

• 久保田 正文

  松下電器産業(株)

• 服藤 憲司

  松下電器産業(株)

• 中川 秀夫

  松下電器産業(株)

• 大國 充弘

  松下電器産業株式会社半導体研究センター

• 三坂 章夫

  松下電器産業株式会社半導体研究センター

• 久保田 正文

  松下電器産業株式会社半導体研究センター

• 服藤 憲司

  松下電器産業株式会社半導体研究センター

• 三坂 章夫

  松下電器産業(株)

• 林 重徳

  松下電器産業(株)半導体社プロセス開発センター

• 林 重徳

  松下電子工業株式会社プロセス開発センター

• 小倉 基次

  松下電子工業株式会社プロセス開発センター

• 山中 通成

  松下電子工業株式会社プロセス開発センター

• 久保田 正文

  松下電子工業株式会社プロセス開発センター

• 大國 充広

  松下電器産業(株)

• 久保田 正文

  松下電子工業(株)

• 大國 充弘

  松下電器産業(株)

• 山中 通成

  松下電子工業(株)

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著作論文

• 誘導結合型プラズマを用いた酸化膜エッチング
• シミュレーションを用いたポリシリコンゲートエッチングにおける形状と寸法の制御解析
• シミュレーションを用いたポリシリコンゲート・エッチングのプロファイル制御

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