誘導結合型プラズマを用いた高選択酸化膜エッチング

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概要

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• マルチスパイラルコイル(MSC)を用いた誘導結合プラズマ(ICP)による酸化膜エッチングについて、レーザ誘起蛍光法(LIF)によるCFx(x=1, 2)ラジカル計測結果をもとに研究した。CF4、CHF3、C4F8ガス系に関して、MSC-ICPにおけるラジカルの基本的振る舞いと酸化膜エッチング特性の相関を検討した。さらに、高選択比を達成する上で有力視されている2つの方法、すなわち、チャンバー壁の昇温とパルス変調について検討した。観測された高選択比比の機構をラジカルの解離・消滅過程への影響から議論する。

• 社団法人電子情報通信学会の論文
• 1997-08-26

著者

• 林 重徳

  松下電器産業(株)半導体社プロセス開発センター

• 林 重徳

  松下電子工業株式会社プロセス開発センター

• 山中 通成

  松下電子工業株式会社プロセス開発センター

• 久保田 正文

  松下電子工業株式会社プロセス開発センター

• 久保田 正文

  松下電子工業(株)

• 山中 通成

  松下電子工業(株)

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