新複合ハードマスク法による低誘電率有機膜/Cuデュアルダマシン多層配線の形成
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概要
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- 1999-06-10
著者
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山中 通成
松下電子工業株式会社プロセス開発センター
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久保田 正文
松下電子工業株式会社プロセス開発センター
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青井 信雄
松下電子工業(株)半導体事業本部プロセス開発センター
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青井 信雄
松下電子工業(株)
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上田 哲也
松下電子工業(株)
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玉岡 英二
松下電子工業(株)
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久保田 正文
松下電子工業(株)
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山中 通成
松下電子工業(株)
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