低誘電率化をめざした層間絶縁膜技術

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概要

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• 応用物理学会の論文
• 1999-11-10

著者

• 青井 信雄

  松下電子工業(株)

• 青井 信雄

  松下電子工業(株)半導体社 プロセス開発センター

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