Yeom Han | 東大大工
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概要
関連著者
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Yeom Han
東大大工
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Yeom H.
延世大
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Yeom H.
Yonsei大
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Yeom Han
東大理
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Yeom H.w.
Yonsei Univ. Seoul Kor
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Yeom W.h
Yonsei Univ. Seoul Kor
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松田 巌
東大理
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太田 俊昭
東大理
-
登野 健介
理研XFEL
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太田 俊明
東大理
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登野 健介
東大理
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長谷川 修司
東大理
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登野 健介
東大院理
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松井 文彦
東大理
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松井 文彦
東大大理
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太田 俊明
東大大理
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堀越 孝太郎
東大理
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長尾 忠昭
物材機構
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谷川 雄洋
東大理
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奥田 太一
東大物性研
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太田 俊明
立命館大学SRセンター
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坂本 一之
東北大院理
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Uhrberg R.I.G.
Linkoping大学
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坂木 一之
東北大院理
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須藤 彰三
東北大院理
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土井 里志
東北大院理
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牛見 義光
東北大院理
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東北大院理 和喜男
東北大院理
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牛見 義光
東北大学大学院理学研究科
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須藤 彰三
東北大学大学院理学研究科物理学専攻
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松田 巌
東大大理
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登野 健介
東大大理
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Uhrberg R.i.g.
Linkoping University
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長尾 忠昭
東大理
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YEOM Han
Yonsei大物理
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武田 さくら
東大理
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YEOM Han-Woong
東大理
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大内 暁
東大理
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Yeom Han
Yonsei University
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雨宮 健太
東大大理
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CHAO Y.-C.
Linkoping University
著作論文
- 25pW-12 Si(111)-(7x7)表面上の準安定分子状酸素の吸着過程
- 24pPSA-34 Si(001)5x3.2-Au表面の電子構造
- 24aPS-35 Si(111)7×7表面上の炭化水素分子の吸着 : 光電子分光法による研究
- 28a-Q-5 Hydrogen-induced 3x1 phase on the Si-rich 3C-SiC(001)surface
- 27a-PS-44 Si(001)表面上のAgの低温層状成長と量子閉じ込めの研究
- 26p-YM-8 NEXAFSによるSi(111)の初期酸化過程でのO_2precursorの研究
- 1p-YE-10 SURFACE BAND STRUCTURE OF THE Si-RICH 3C-SiC(001)3×2 SURFACE
- 25a-YM-9 In吸着Si(111)表面の4×1⇄8×2パイエルス構造相転移