平本 俊郎 | MIRAI-Selete

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概要

• 同名の論文著者
• MIRAI-Seleteの論文著者

関連著者

• 西田 彰男

  (株)半導体先端技術テクノロジーズ

• 平本 俊郎

  東京大学生産技術研究所

• 竹内 潔

  MIRAI-Selete

• 西田 彰男

  MIRAI-Selete

• 平本 俊郎

  MIRAI-Selete

• 平本 俊郎

  東京大学生産技術研究所:mirai-selete

• 竹内 潔

  NECエレクトロニクス株式会社LSI基礎開発研究所

• Hiramoto Toshiro

  The Institute Of Industrial Science The University Of Tokyo:vlsi Design And Education Center The Uni

• Hiramoto Toshiro

  Institute Of Industrial Science University Of Tokyo

• Hiramoto Toshiro

  Vlsi Design And Education Center University Of Tokyo

• Hiramoto Toshiro

  Vlsi Design And Education Center The University Of Tokyo

• 角村 貴昭

  (株)半導体先端技術テクノロジーズ

• 角村 貴昭

  MIRAI-Selete

• 蒲原 史朗

  MIRAI-Selete

• 深井 利憲

  MIRAI-Selete

• プトラ アリフィン・タムシル

  東京大学

• 平本 俊郎

  東大

• Hiramoto Toshirou

  Device Development Center Hitachi Ltd.

• Hiramoto Toshiro

  Institute Of Industrial Science The University Of Tokyo

• Hiramoto T

  Univ. Tokyo

• Hiramoto Toshiro

  The Authors Are With Institute Of Industrial Science The University Of Tokyo:the Author Is With Vlsi

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著作論文

• 新規格化法を用いたファブ/テクノロジ/水準間比較によるランダムしきい値ばらつき評価(IEDM(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
• 微細MOSデバイスにおけるランダムばらつき(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)

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