川路 紳治 | 学習院大・理
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概要
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著作論文
- 6a-A2-3 量子化ホール抵抗の高精度測定I
- 28a-E-3 シリコンMOSFETの遠赤外分光伝導特性
- 4p-B-5 Si(001) 近傍面 MOS 反転層のサイクロトロン共鳴吸収
- 4p-B-4 Si(001) 近傍面 MOS 反転層のサブバンド間遷移
- 量子化ホール抵抗の高精度測定 : 試料幅依存性
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- 4a-M-6 酸化膜のないSi表面反転層の電気伝導
- 4a-H-6 InAs表面異常伝導の縦電場効果
- 2a-N-8 半導体の表面二次元伝導と表面波 IV
- 30a-RB-9 InAs表面n型反転層弱局在領域の電気伝導
- 5a-NL-4 Si-MOS(100)反転層2次元電子移動度の温度依存
- 5a-NL-2 Si-MOS二次元伝導の強電界効果と負磁気抵抗
- 30p-K-6 セシウム吸着Si表面反転層のアンダーソン局在
- 30p-K-3 シリコン(100)表面2次元電子移動度の温度依存
- 3p-B-11 Si-MOS反転層の負磁気抵抗効果とアンダーソン局在II
- 4p-B-1 Si MOS 反転層の格子散乱移動度
- 29a-M-11 量子化ホール抵抗の高精度測定II
- 29a-M-11 量子化ホール抵抗の高精度測定 II
- 4a-J-14 量子化ホール抵抗の高精度測定
- 30p-N-11 量子化ホール抵抗の高精度測定 II
- 4p-K-8 半導体の表面二次元伝導と表面波 II
- 13p-E-6 Si-MOS反転層の極低温・強磁場電気伝導
- 26a-ZH-1 量子化ホール抵抗の高精度測定
- 2a GA-4 Si-MOS反転層のフォノン散乱と負磁気抵抗効果
- 5p-DR-19 Si-MOSn型反転層の負磁気抵抗効果-(100)面
- 31p-CA-10 Si-MOS n型反転層の負磁気抵抗効果
- 6a-B-9 セシウム吸着シリコン表面反転層の強電界効果
- 11a-F-6 Csを吸着させたP-Si(III)表面の電気的性質
- 3p-R-11 Csを吸着させたP型Si(111)表面の電気的性質
- 14aM-6 Csを吸着させたreal Si表面の電気的性質
- 23a-G-6 Si-Csの電気的性質
- 4p-K-7 InAs表面の電流磁気効果
- 18p-A-2 InAs劈開清浄面の磁気抵抗効果
- InAs表面二次元伝導の抵抗と磁気抵抗の異常 : 半導体(不純物伝導)
- 1p-KH-7 Si-MOS反転層の強磁場電気伝導
- 13p-E-7 Si-MOS界面2次元系の強局在領域の電気伝導
- 28a-E-5 Si-MOS反転層の強磁場ホール効果の温度依存
- 2a GA-3 Si(001) 近傍面MOS反転層の伝導特性 (II)
- 2a GA-2 Si(100) MOS反転層の谷分裂
- 5p-DR-18 Si-MOS反転層の強磁場電気伝導;Hall効果
- 31p-CA-11 Si-反転層のシュブニコフ・ド・ハース効果の角度依存
- 4p-K-21 Si-MOS反転層の強磁場伝導
- 22pF-5 量子ホール効果と抵抗標準
- 4p-K-17 Si-MOS反転層の局在状態
- 半導体における準二次元電気伝導(第22回物性若手「夏の学校」開催後期・報告)
- 30p-K-5 低電子濃度領域のSi-MOS反転層の電気伝導
- 3p-B-12 低電子濃度領域のSi-MOS反転層の電気伝導
- 7a-U-5 Si-n型表面反転層の強磁場ホール効果
- 11a-F-4 低温・強磁場下のSi表面反転層への量子輸送
- 28a-E-6 Si-MOS反転層の負磁気抵抗効果とアンダーソン局在