小林 康之 | 日本電信電話株式会社NTT物性科学基礎研究所

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• 小林 康之

  日本電信電話株式会社NTT物性科学基礎研究所

• 赤坂 哲也

  日本電信電話株式会社NTT物性科学基礎研究所

• 嘉数 誠

  Ntt物性科学基礎研究所

• 嘉数 誠

  日本電信電話株式会社ntt物性科学基礎研究所

• 小林 康之

  日本電信電話(株)NTT物性科学基礎研究所

• 赤坂 哲也

  日本電信電話(株)NTT物性科学基礎研究所

• 小林 直樹

  NTT基礎研究所

• 嘉数 誠

  日本電信電話(株)NTT物性科学基礎研究所

• 小林 康之

  NTT基礎研究所

• 安藤 精後

  NTT基礎研究所

• 安藤 精後

  日本電信電話公社武蔵野電気通信研究所

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• 牧本 俊樹

  Ntt物性基礎研

• 小林 直樹

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• 牧本 俊樹

  日本電信電話株式会社NTT物性科学基礎研究所

• 谷保 芳孝

  日本電信電話株式会社NTT物性科学基礎研究所

• 嘉数 誠

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• 熊谷 雅美

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著作論文

• 六方晶窒化ホウ素のエピタキシャル成長とその紫外発光特性
• ステップフローMOVPE成長による量子細線
• GaNの選択成長と微小ファセットレーザへの応用
• 深紫外光源のための窒化物半導体の開発
• 窒化物半導体のファセット成長 (特集論文 ファセットレ-ザ)
• 表面過飽和度制御によるGaNステップフリー面の形成(次世代素子のための窒化物結晶成長新機軸)

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