噴霧熱分解法によるNi/SiO<SUB>2</SUB>触媒の調製
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概要
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Ni (NO<SUB>3</SUB>) <SUB>2</SUB>およびNiCl<SUB>2</SUB>のメタノール溶液をSiCl<SUB>4</SUB>および空気とともに管形反応器中に噴霧し, これらの混合物を最高反応温度1573Kで熱分解することによりNi/SiO<SUB>2</SUB>触媒を調製した.生成された触媒の見かけの粒径はBET法により, またNiOの粒径<I>d</I><SUB>NiO, <I>x</I></SUB>はXRDにより測定した.<I>d</I><SUB>NiO, <I>x</I></SUB>と噴霧液の相対粘度ηとの関係は本実験条件の下では<BR><I>d</I><SUB>NiO, <I>x</I></SUB>=<I>k</I> (η<SUP>0.45</SUP>) <SUP><I>n</I></SUP><BR>で表される.<BR>ここで<I>n</I>および<I>k</I>は反応系により異なり, [Ni (NO<SUB>3</SUB>) <SUB>2</SUB>/CH<SUB>3</SUB>OH+空気+SiCl<SUB>4</SUB>] 系で<I>n</I>=1.48, <I>k</I>=18.6 nm, [NiCl<SUB>2</SUB>/CH<SUB>3</SUB>OH+空気+SiCl<SUB>4</SUB>] 系で<I>n</I>=1.48, <I>k</I>=31.6nm, [Ni (NO<SUB>3</SUB>) <SUB>2</SUB>/CH<SUB>3</SUB>OH+空気] 系および [NiCl<SUB>2</SUB>/CH<SUB>3</SUB>OH+空気] 系では<I>n</I>=0.64, <I>k</I>=112nmとなる.<BR>また, 触媒の見かけ成長速度γapはNi塩の反応器入口のモル分率χの1次に比例し, <BR>γ<I><SUB>ap</SUB></I>=<I>k<SUB>ap</SUB></I> χ<BR>で表されることが明かとなった.<BR>生成したNi/SiO<SUB>2</SUB>触媒の反応性は一酸化炭素のメタネーションをモデル反応として用い, 通常の含浸法で調製した触媒に比べ1〜2桁高いTOFを示した.
- 社団法人 化学工学会の論文
著者
-
大井 浩
大阪職業訓練短期大学校
-
矢野 元威
大阪市立大学工学部応用化学科
-
原納 淑郎
大阪市立大学工学部 応用化学科
-
大井 浩
雇用促進事業団
-
津郷 佳治
石原産業 (株)
-
原納 淑郎
大阪市立大学 応用化学科
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