CVDによるNiO/SiO<SUB>2</SUB>粒子生成過程に与える水蒸気の効果
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概要
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NiCl<SUB>2</SUB> と SiCl<SUB>4</SUB>を同時に酸化反応させNiO/SiO<SUB>2</SUB>粒子を調製するとき, NiCl<SUB>2</SUB>からNiOへの変化率は低い.そこで水蒸気を酸化促進剤として添加すると, 生成粒子中のNiCl<SUB>2</SUB>は減少する.この反応の機構を熱力学的に調べ, sheme 2で進行する事が明らかとなった.また, 水蒸気の添加はNiOとSiO<SUB>2</SUB>との相互作用を強める事をTPR (昇温還元) から明らかにした.
- 社団法人 化学工学会の論文
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