GAによる雑音除去のための劣化画像のみを用いた最適構造要素の推定(モルフォロジーセッション,システムオンシリコン,RFID技術及び一般)
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概要
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モルフォロジ演算の一つであるopeningを用いてテクスチャ画像のインパルス性雑音除去を行う際,最適な多値構造要素を推定する必要がある.これまでに,劣化画像のみを用いた最適構造要素の推定法が提案され,その最適化手法にシミュレーテッドアニーリング(SA)が採用されている.従来手法のSAにおいては,形状のサイズを固定した近傍を用い,探索の進行とともに徐々にサイズを減少させていくことで構造を推定しているため,探索空間が限られる問題があった.本研究では,広大な解空間においても大域的な探索が可能な遺伝的アルゴリズム(GA)を採用し,構造要素のサイズも設計変数として最適な構造要素を推定する.数値例からGAが従来手法と比較してより良好な結果が得られることを示す.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2008-11-27
著者
-
花田 良子
関西大学システム理工学部
-
棟安 実治
関西大学システム理工学部
-
浅野 晃
広島大学大学院工学研究科情報工学専攻
-
奥野 裕之
関西大学システム理工学部
-
浅野 晃
広島大学大学院工学研究院
-
浅野 晃
広島大学大学院工学研究科
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