ゾルゲル法によるBi:YIG/SiO_2積層膜の形成と磁気及び磁気光学特性(光部品の実装・信頼性,一般)
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概要
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これまで,我々は緑色から青色の可視光領域で磁気光学材料の光吸収低減を目的とし,コンポジット膜の研究を行ってきた.エアロゾルデポジション法で磁性ガーネット材料と誘電体材料のコンポジット膜を作製した結果,誘電体材料の割合を増加させることが光吸収低減に効果的なことを確認した.本研究では,青色の可視光領域における磁気光学材料の開発のため,ゾルゲル法でコンポジット膜を形成した.その膜を磁性フォトニック結晶の欠陥層に導入し,磁気、光学および磁気光学特性について調査した.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2008-04-11
著者
-
井上 光輝
豊橋技術科学大学
-
高木 宏幸
豊田工業高等専門学校
-
金 周映
豊橋技術科学大学
-
山本 勇樹
豊橋技術科学大学
-
金 周映
豊橋技術科学大学工学部環境生命工学系
-
山本 雄大
豊橋技術科学大学
-
山本 勇樹
豊橋技科大
-
高木 宏幸
豊橋技術科学大学
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