軟磁性高磁歪Tb-Ho-Fe系アモルファス合金スパッタ薄膜
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概要
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薄膜アクチュエータ材料の開発のために、高周波マグネトロンスパッタ法によって作製される三元合金Tb_<40-x>Ho_xFe_<60>アモルファス薄膜の磁化並びに磁歪特性を調べた。この目的には、薄膜は低磁界駆動を可能にするため高磁歪を維持しながらソフトな磁気特性を備えることが必要となる。組成x=15at.%近傍で抗磁力Hc=20Oeの軟磁化特性と飽和磁歪定数λs>100x10^<-6>の大きな値をもっ薄膜が実現できることが分かった。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1996-03-01
著者
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