金属一酸化物同時電析法によるCo-Ce-O薄膜の作製
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概要
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Co-Ce-O films were fabricated by a metal-oxide coelectrodeposition method. Co and Ce-O were deposite simultaneously from a reaction solution containing CoCl_2 and Ce(NO_3)_3. The film composition was subject to change depending on the concentration of the reaction solution and the electrochemical potential. In order to obtain metal Co, it was effective to add H_3BO_3 to the reaction solution for the pH buffered agent of about pH3.
- 社団法人日本磁気学会の論文
- 2000-04-15
著者
-
弥生 宗男
茨城工業高等専門学校
-
伊崎 昌伸
大阪市立工業研究所
-
弥生 宗男
豊橋技術科学大学
-
井上 光輝
豊橋技術科学大学
-
藤井 壽崇
豊橋技術科学大学
-
伊崎 昌伸
豊橋技術科学大学 機械工学系
-
伊崎 昌伸
豊橋技術科学大学
-
伊崎 昌伸
大阪市立工業研究所 無機化学課
-
藤田 直幸
大阪府立工業高等専門学校
-
伊崎 昌伸
大阪市工研
-
佐場 寿彦
大阪府立工業高等専門学校電子情報工学科
-
IZAKI Masanobu
Osaka Municipal Technical Research Institute
-
藤田 直幸
奈良工高専
-
伊崎 昌伸
Department Of Production Systems Engineering Toyohashi University Of Technology
-
伊崎 昌信
Department Of Inorganic Chemistry Osaka Municipal Technical Research Institute
-
Izaki Masanobu
Department Of Production Systems Engineering Toyohashi University Of Technology
-
弥生 宗男
茨城工業高等専門学校電子情報工学科
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