ソフト溶液プロセスで作製したヘテログラニュラー型Fe-Zn-O薄膜の微細構造と磁気特性
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2005-03-11
著者
-
伊崎 昌伸
大阪市立工業研究所
-
邑瀬 邦明
京都大学大学院 工学研究科
-
粟倉 泰弘
京都大学大学院 工学研究科
-
邑瀬 邦明
Department Of Materials Science And Engineering Kyoto University
-
乾 晴行
京都大学
-
乾 晴行
京都大学大学院工学研究科
-
邑瀬 邦明
京都大学
-
品川 勉
阪市工研
-
伊崎 昌伸
阪市工研
-
品川 勉
(地独)大阪市立工業研究所 電子材料研究部
-
伊崎 昌伸
豊橋技術科学大学 機械工学系
-
粟倉 泰弘
京都大学大学院工学研究科材料工学専攻
-
粟倉 泰弘
京都大学
-
伊崎 昌伸
豊橋技術科学大学
-
伊崎 昌伸
大阪市立工業研究所 無機化学課
-
伊崎 昌伸
大阪市工研
-
Shinagawa Tsutomu
Osaka Municipal Technical Res. Inst. Osaka Jpn
-
Shinagawa Tsutomu
Osaka Municipal Technical Research Institute
-
Shinagawa Tsutomu
Department Of Applied Chemistry Faculty Of Engineering Osaka University
-
IZAKI Masanobu
Osaka Municipal Technical Research Institute
-
Izaki M
Osaka Municipal Technical Research Intitute
-
伊崎 昌伸
Department Of Production Systems Engineering Toyohashi University Of Technology
-
伊崎 昌信
Department Of Inorganic Chemistry Osaka Municipal Technical Research Institute
-
Izaki Masanobu
Department Of Production Systems Engineering Toyohashi University Of Technology
-
伊崎 昌伸
豊橋技術科学大学 大学院工学研究科
-
粟倉 泰弘
京都大学工学部
関連論文
- 光アシストソフト溶液プロセスによる酸化物膜の作製と物性
- 複合めっき法によるTiO_2分散Ni-Mo合金皮膜の作製とその評価
- 表面電荷制御ポリマーラテックスを用いた酸化物ナノ構造体の電解形成
- 座談会 表面技術に見る夢 (踏み出そう!新たな一歩)
- 湿式表面処理の物理化学
- 表面技術に見る夢
- Phase Stability of Bi_2(V_ME_x)O_) (ME=Li and Ag, x=0.05 and 0.1)
- 羽田空港から都区内へ向かう
- ソフト溶液プロセスで作製したヘテログラニュラー型Fe-Zn-O薄膜の磁気特性
- ソフト溶液プロセスで作製したヘテログラニュラー型Fe-Zn-O薄膜の微細構造と磁気特性
- TiN表面へのCuおよびPdの置換析出挙動とその熱力学的考察
- 電位-pH図を使って半導体電析を解釈する : CdTe電析を例に
- 酸化物系磁性半導体膜の化学的析出
- 電気炉酸化スラグの淡水への溶出挙動
- 陰極析出酸化亜鉛皮膜の電析条件による光触媒活性への影響
- 電析Ni-Co合金膜の構造と磁気的性質
- 低温溶液化学プロセスで形成した鉄添加酸化亜鉛透明磁性体の構造
- 原子間力顕微鏡を用いた酸化亜鉛層の成長面の観察
- 酸化亜鉛膜中への電気化学的不純物導入による物性制御
- 無電解Ni-P/Auめっき膜の置換金層の構造
- 環境に優しい半導体ならびに磁性体酸化物膜の作製技術
- マイクロ磁気弾性デバイスへの応用を目的とした鉄基アモルファス合金電析膜の作成
- ソフト溶液電気化学プロセスによる酸化物半導体薄膜の合成
- 水溶液電解法による酸化亜鉛膜の作製
- ウェットプロセスによる金属-高分子コンポジット薄膜の作製
- 金属-絶縁物同時電析法による金属-絶縁物グラニュラ薄膜の作製
- ポリオール法によるFe-Pt超微粒子の合成と金属-絶縁体複合薄膜の作製
- 金属-酸化物同時電析法によるFe-Ce-Oグラニュラ薄膜の作製
- 錯化剤を添加した金属-酸化物同時電析法によるCo-Ce-O薄膜の作製
- 金属-酸化物同時電析法で作製したCo-Ce-O薄膜の磁気特性の改善
- 金属一酸化物同時電析法によるCo-Ce-O薄膜の作製
- ソフト溶液プロセスによるマイクロ磁気デバイス用機能性薄膜の作製
- 酸化物-金属同時電析法によるCo-Ce-O薄膜の作製
- Fe-Tb-O膜の電着形成と特性
- Fe-B電析膜のキャラクタライゼーションと磁気特性
- Fe-Tb-O電析膜の製膜機構と磁気特性
- マイクロ磁気デバイスヘの応用を目的としたFe-Bアモルファス電析膜の作製
- Fe-B電析膜のキャラクタライゼーションと磁気特性
- Fe-Tb-O薄膜の電着形成と磁気特性
- Selective Preparation of Zinc Oxide Nanostructures by Electrodeposition on the Templates of Surface-functionalized Polymer Particles
- 光溶液化学反応を利用した新規な磁性酸化物膜形成方法
- 電解酸化亜鉛膜による樹脂の透明導電化
- 水溶液から電位変化法により作製した傾斜機能酸化亜鉛膜のキャラクタリゼーション
- 放射光によるナノコンポジット磁性半導体の解析
- CIGSならびに酸化物系化合物太陽電池と湿式製膜法
- ソフト溶液プロセスで作製した鉄添加酸化亜鉛薄膜の加熱処理効果
- ヘテログラニュラー型透明室温強磁性薄膜の磁気特性
- 新材料開発 紫外線カット機能をもつ透明強磁性材料
- II 表面技術に見る夢
- EPMA による微小領域の Mg の X 線吸収微細構造測定(微小域構造解析)(最先端の化学分析と物理解析)
- EPMAを用いた軽元素の局所X線吸収分光分析
- SIMSおよびXPSを利用した無電解Ni-Pめっき上置換金めっきの構造解析
- 第2銅アンミン水溶液による黄銅および亜鉛めっき銅板からの銅および亜鉛の回収
- CdTe薄膜電析の熱力学的考察-その電位-pH図-
- Reduction of titanium oxide in the presence of nickel by nonequilibrium hydrogen gas
- 新時代を迎えたエレクトロニクス配線技術
- ギ酸を含む2価クロム電解溶からのクロム電析
- 酸性クエン酸水溶液からのCdTe薄膜電析
- 酸性および塩基性水溶液からの電析CdTe半導体薄膜の微細組織
- ジエチレントリアミンを含む塩基性水溶液からのCdTe薄膜の電析
- 溶融LiCl-KCl中での貴金属の陽極溶解と化学還元
- 化学製膜ZnOを中間層として用いたガラス基板上Cu薄膜の加熱処理による密着性向上 (MEMS 2006 第16回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集)
- 化学製膜ZnOを用いたガラス基板上への高密着性銅薄膜の無電解形成
- 太陽光発電システムとその評価
- 解説 透明電極用酸化亜鉛膜の新規製造方法 (特集 ソフト溶液プロセス)
- ヒドラジンを還元剤とするタングステン含有コバルトの無電解めっき
- 湿式法による太陽電池用CdTe薄膜材料の作製
- 水溶液電解法により作製した酸化亜鉛膜の電気的性質
- 無電解Ni-B-SiC複合皮膜の組織におよぼす加熱温度の影響
- ピロリン酸浴からのニッケル-スズ合金めっきの組織と破壊
- 二次イオン質量分析装置による薄膜の分析 (機器特集)
- 水溶液からの電気化学的手法による酸化亜鉛膜の作製
- 走査型プロ-ブ顕微鏡
- X線回折法の基礎と応用
- めっき皮膜の構造と性質
- 溶液電解法による酸化物膜の作製
- 走査型プロ-ブ顕微鏡による材料表面の評価 (特集 セラミックスの製造に役立つ最新の分析・評価機器)
- タッチパネル用透明電極を目的とした無電解ZnO皮膜の作製
- Ni-Al2O3分散めっきの引張特性と破壊におよぼす加熱の影響
- 複合めっき法によるTiO2分散Ni-Mo合金皮膜の作製とその評価
- Serial Batch Elution of Electric Arc Furnace Oxidizing Slag Discharged from Normal Steelmaking Process into Fresh Water
- Electrochemical Growth of Highly Resistive ZnO Film in an Aqueous Solution
- 銅電解精製におけるワックスレスパーマネントカソードプロセスのラミネーション界面
- Preparation of Terbium Oxide Films through Electrochemical Reaction
- TiN 薄膜の酸化溶解による銅の置換析出挙動
- 電着法によるカルコゲナイド半導体薄膜-特にCdTe-の作製
- アンモニア-アルカリ性水溶液からのCdTe電析におよぼすアンモニア濃度の影響
- Ni-金属Sn複合めっき皮膜の作製とそのはんだ付け性
- Ni-Al粒子分散めっきの表面組織とAl含有率におよぼすAl粒子の表面処理とめっき条件の影響
- 太陽電池の現状と将来
- 周波数変調AFMによるイオン液体-固体界面の高分解能観察
- 電析Fe-C合金膜の相変態と硬度変化
- パルス電析によるCuO薄膜の結晶性向上と光電気化学応答性の促進
- 金属-酸化物同時無電解析出法によるCo-Ce-O薄膜の作製
- 玉野製錬所ニカワ連続溶解設備導入によるニカワ・電力原単位削減
- Ni-16mol%Al複合電析膜の組織におよぼす加熱の影響
- 複合電析膜加熱法によるNi-Al合金膜の組織と硬度
- 電位‐ｐＨ図を使って半導体電析を解釈する～ＣｄＴｅ電析を例に～:～CdTe電析を例に～
- シリコンに共有結合により接合したアルキル自己集積化単分子膜の表面電位と電子状態(バイオ,エレクトロニクス,材料,界面,その場観察,その他一般)
- 銅電解精製における電析銅の品質及び機械的性質に及ぼす塩化物イオンの影響