Development of a Gas Jet-Type Z-Pinch EUV Light Source for Next-Generation Lithography
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概要
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A new gas jet-type Z-pinch EUV light source having double gas jet electrodes has been developed. It has two nozzles and two diffusers. A xenon Z-pinch plasma that emits EUV light is produced between the inner nozzle and the corresponding diffuser. A cylindrical shell consisting of a He gas curtain produced by the outer nozzle is specially designed for shielding the debris and suppressing the inner gas expansion. We have succeeded in generating EUV energy of 1.22 mJ/sr/pulse (2% in-band at 13.5 nm) and EUV emitting plasma of 0.07 mm FWHM diameter and 0.34 mm FWHM length by using this He gas curtain.
- 社団法人プラズマ・核融合学会の論文
- 2005-09-25
著者
-
沖野 晃俊
東京工業大学大学院総合理工学研究科創造エネルギー専攻
-
渡辺 正人
東京工業大学
-
堀岡 一彦
東工大総理工
-
河村 徹
Department of Energy Sciences, Tokyo Institute of Technology
-
堀岡 一彦
Department of Energy Sciences, Tokyo Institute of Technology
-
宗 仁皓
Department of Energy Sciences, Tokyo Institute of Technology
-
MOHANTY R.
Department of Energy Sciences, Tokyo Institute of Technology
-
渡辺 正人
Department of Energy Sciences, Tokyo Institute of Technology
-
沖野 晃俊
Department of Energy Sciences, Tokyo Institute of Technology
-
堀田 栄喜
Department of Energy Sciences, Tokyo Institute of Technology
-
堀田 栄喜
東京工業大学大学院
-
沖野 晃俊
東京工業大学大学院:(株)プラズマコンセプト東京
-
宗 仁皓
Department Of Energy Sciences Tokyo Institute Of Technology
-
Mohanty R.
Department Of Energy Sciences Tokyo Institute Of Technology
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