同軸2重円筒ノズル型電極を用いたガスジェット型放電生成プラズマ光源に関する研究
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2010-12-16
著者
-
渡辺 正人
東京工業大学
-
堀田 栄喜
東京工業大学
-
渡邊 正人
東京工業大学
-
堀田 栄喜
東工大・工
-
堀田 栄喜
東京工業大学大学院
-
堀田 栄喜
東京工業大学大学院総合理工学研究科
-
堀田 栄喜
東工大工
-
滝本 泰大
東京工業大学
-
黄 斌
東京工業大学
-
渡邊 正人
東京工業大学大学院総合理工学研究科
関連論文
- NTD用小型中性子源の開発と中性子束分布の測定
- パルス二次電子銃の開発とVOC分解への応用
- パルス変調によるヘリウム誘導結合プラズマの生成とその特性測定
- ナノリットル試料分析用ドロプレット試料導入ICP質量分析装置の開発
- 水素様窒素再結合レーザ発振のための電流波形制御
- レーザトリガ型Sn EUV放電光源の開発
- 水素様窒素再結合励起型軟X線レーザ発振に向けた装置開発
- キャピラリー放電による再結合励起レーザ発振の可能性
- キャピラリー放電による再結合励起型軟X線レーザー
- レーザーアシストを用いたEUV放電光源の開発
- 水素様窒素再結合励起型軟X線レーザ発振に向けたパルスパワーシステムの開発
- 減圧マルチガス誘導結合プラズマ源
- 微量元素分析用マイクロプラズマ源の開発とハロゲン元素の発光分析
- キャピラリ放電励起軟X線レーザの出力特性
- 微量元素分析用高周波重畳マイクロプラズマの開発
- 同軸二重ノズル型電極を用いたZピンチプラズマからのEUV放射特性
- Development of a Gas Jet-Type Z-Pinch EUV Light Source for Next-Generation Lithography
- キャピラリー放電励起軟X線レーザの出力特性
- 静電誘導サイリスタを用いた誘導シンクロトロン用パルスモジュレータの開発
- キャピラリーZピンチEUV光源の研究
- 27pA45P 地雷探知用放電型核融合中性子源のための高電圧パルス電源システム(トカマク、加熱、電源・マグネット超伝導技術、炉設計)
- 26aB26P キヤピラリーZピンチ放電プラズマを用いた極端紫外光源の出力特性(プラズマ基礎・応用)
- 高強度レーザーによる高エネルギーイオン発生のための集光実験
- 超高出力・超短パルスレーザーを用いた高エネルギーイオンの生成特性
- 東京工業大学創造エネルギー専攻堀田研究室
- 繰り返しパルスプラズマ放電を用いた点火システムの開発(第2報) : 点火機構の解明と実機での試験
- 繰り返しパルスプラズマ放電を用いた点火システムの開発
- パルスパワー応用の最新動向
- 磁場ガイド放電プラズマを用いた長パルスEUV光源
- 大気圧マルチガスプラズマ源を用いた手術用麻酔ガスの直接分解処理
- 高速キャピラリ放電を用いた再結合軟X線レーザの実現に向けた分光分析
- 微量元素分析用高周波／パルス重畳大気圧マイクロプラズマ源の評価
- 不安定共振器を用いるKrFレーザーのビーム特性とX線予備電離
- 表面処理用大気圧大型リモートプラズマ源
- ダメージフリープラズマ源を用いた親水化処理実験と分光特性測定
- 大気圧大型リモートプラズマ源の開発と親水化処理実験
- 大気圧マルチガスプラズマ源を用いた手術用麻酔ガスの直接分解
- 微少量試料分析用ドロプレット試料導入ヘリウム誘導結合プラズマの基本特性
- アルゴン/ヘリウム共用誘導結合プラズマにおける冷却ガスの検討
- 外部冷却型高出力ヘリウムICPの開発
- 水素添加によるヘリウム誘導結合プラズマの分光学的特性の改善
- 慣性静電閉じ込め核融合研究の現状
- パルス二次電子銃の開発とVOC分解への応用
- 21aZH-3 プラズママイクロオプティクスを用いた2段階レーザー航跡場電子加速 : 低エミッタンス、準単色電子ビームの安定発生に向けてII(21aZH プラズマ科学(非線形現象・発振・加速),領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- 21aZH-2 プラズママイクロオプティクスを用いた2段階レーザー航跡場電子加速 : 低エミッタンス、準単色電子ビームの安定発生に向けてI(21aZH プラズマ科学(非線形現象・発振・加速),領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- 旋回気流強化型トーチを用いるヘリウム誘導結合プラズマ質量分析装置の試作(質量分析法の応用技術)
- NTD用小型中性子源の開発と中性子束分布の測定
- 超小型放電型核融合中性子源開発研究の現状と地雷探査への応用
- 超短パルスレーザー生成フィラメントプラズマによる電場センシング
- 放電プラズマによるEUV光源 (特集 プラズマプロセスの応用技術)
- 軸対称プラズマ平衡配位の自由境界解析
- ワイヤ・イオン・プラズマ源の直流放電特性
- キャピラリー放電型軟X線レーザーの現状
- 5.放電生成プラズマ光源 : 5.1放電プラズマ光源研究の現状(リソグラフィ用EUV(極端紫外)光源研究の現状と将来展望)
- 小さな装置で核融合反応
- キャピラリ放電型軟X線レーザー装置の開発
- キャピラリー放電型軟X線レーザ装置の設計・製作
- キャピラリーZピンチ放電プラズマのダイナミクスとX線放射過程
- キャピラリーZピンチ放電プラズマのダイナミクス
- 2. ビーム発生技術 : 2.1 軽イオンビーム( イオンビーム核融合技術)
- ワイヤ・イオン・プラズマ源を用いた横出し型二次電子銃の研究
- 同軸二重円筒型核融合装置における装置性能の温度依存性
- 同軸2重円筒ノズル型電極を用いたガスジェット型放電生成プラズマ光源に関する研究
- パルス電源を用いた大気圧ヘリウムプラズマジェットの光学・電気特性評価
- 外部磁場影響下での高速キャピラリ放電を用いた高電離窒素プラズマのスペクトル解析
- LIFを用いたラジカル測定
- 二次電子銃を用いた殺菌・滅菌の応用研究
- 高速キャピラリー放電型バルマーα線軟X線レーザのための水素様窒素イオンの確認
- 二次電子銃を用いた殺菌への応用研究
- 02aB21P 電流制御による極端紫外光源プラズマの高効率化(プラズマ応用)
- 大気圧直流プラズマジェットによる大腸菌への殺菌効果の考察
- パルス型二次電子銃を用いたバクテリア不活性化効果とメカニズムの解明
- パルスストリーマの発生とOHラジカルの計測
- レーザアブレーションスズプラズマの電子密度の時間空間分布
- 軸方向磁場の高電離窒素プラズマスペクトルへの影響
- Estimation of electron temperature and density of the decay plasma in a LADPP EUV source
- 慣性静電閉じ込め核融合の中性子生成率に対する方位角方向カスプ磁界の影響
- 放電生成プラズマ方式による極端紫外発光の高効率化に向けた各パラメータの最適条件の検証
- DPP方式によるEUV光源と電子密度の測定
- 方位角方向カスプ磁界を用いた慣性静電閉じ込め核融合の動作特性
- 軸方向磁界印加による円筒型慣性静電閉じ込め核融合の動作特性
- 針対平板ギャップを用いたパルスストリーマ放電におけるOHラジカルの計測
- 軸方向磁界印加による円筒型慣性静電閉じ込め核融合の動作特性
- 高速キャピラリ放電を用いた再結合軟X線レーザの実現に向けた分光分析
- 二次電子銃を用いた殺菌・滅菌の応用研究
- 外部磁場影響下での高速キャピラリ放電を用いた高電離窒素プラズマのスペクトル解析
- 針対平板ギャップを用いたパルスストリーマ放電におけるOHラジカルの計測
- 5.繰り返しナノパルス放電プラズマ中のラジカル計測と点火特性(プラズマ支援燃焼の現状と展望)
- 大気圧直流プラズマジェットによる大腸菌への殺菌効果の考察
- パルスストリーマの発生とOHラジカルの計測
- 軸方向磁場の高電離窒素プラズマスペクトルへの影響
- 慣性静電閉じ込め核融合の中性子生成率に対する方位角方向カスプ磁界の影響
- Estimation of electron temperature and density of the decay plasma in a LADPP EUV source
- パルス型二次電子銃を用いたバクテリア不活性化効果とメカニズムの解明
- 二次電子銃を用いた殺菌への応用研究
- 慣性静電閉じ込め核融合(IECF)装置における長時間運転に関する研究
- ギャップスイッチと同軸ケーブルを用いたパルスストリーマ放電におけるOHラジカルの測定
- 円筒型慣性静電閉じ込め核融合における中性子生成率の軸方向磁界依存性についての考察
- ギャップスイッチと同軸ケーブルを用いたパルスストリーマ放電におけるOHラジカルの測定
- 円筒型慣性静電閉じ込め核融合における中性子生成率の軸方尚磁界依存性についての考察