5.放電生成プラズマ光源 : 5.1放電プラズマ光源研究の現状(<小特集>リソグラフィ用EUV(極端紫外)光源研究の現状と将来展望)
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概要
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The present status of the development of light sources based on discharge for EUV lithography is reviewed. The discharges, such as Z-pinch, capillary discharge, plasma foucus and hollow cathode discharge, are compared and their significant features are pointed out. The performance of each type of discharge summarized. The plans and the present state of the development of EUV high sources at Tokyo Institute of Technology and Kumamoto University are briefly described.
- 社団法人プラズマ・核融合学会の論文
- 2003-03-25
著者
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