有機EL材料の成膜条件と多結晶化現象
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概要
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ITO電極にNPD, TPDを積層させた後、一定雰囲気の下で保存し、その後多結晶化の観察を行った。NPDとTPDの多結晶化進展を比較すると、TPDの方がNPDよりも多結晶化進展が速いことがわかった。また、保存温度の上昇に伴い、多結晶化進展が促進することが、統計的に明らかになった。TPDを真空蒸着法とスピンキャスト法で製膜を行った場合、スピンキャスト法では多結晶化進展が抑制されることがわかった。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2006-01-20
著者
-
森 竜雄
名古屋大学大学院工学研究科電子情報システム専攻
-
森 竜雄
名古屋大学工学研究科
-
森 竜雄
名古屋大学
-
森 竜雄
名古屋大学大学院
-
大石 教博
トッパン・フォームズ株式会社
-
小田 繁尚
名古屋大学大学院 工学研究科
-
森 竜雄
名古屋大学大学院工学部
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