SAMsによる有機EL素子の正孔輸送層の膜安定性の改善
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概要
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有機EL素子の正孔輸送材料は一般的にガラス転移点が低く、膜質の劣化が素子の劣化の要因の一つに考えられている。我々はITO (Indium-tin-oxide)上に数種類のSAMs (Self-assembled monolayers)を成膜し、その上に正孔輸送層であるNPDを成膜することでNPDの多結晶化を抑制することを検討した。偏光顕微鏡で多結晶領域の進展の様子を観察したところへプタデカフルオロテトラヒドロデシルトリエトキシシランから作製したF-SAMs上にNPDを成膜することで劇的に多結晶化の進展が抑制できた。そのF-SAMsを正孔注入層として利用した有機EL素子はCuPcを利用した素子より低電圧で駆動させることができ、輝度半減時間も長くすることができた。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2007-01-19
著者
-
森 竜雄
名古屋大学大学院工学研究科電子情報システム専攻
-
西野 俊祐
名古屋大学大学院工学研究科電子情報システム専攻
-
小川 智
岩手大学工学部応用化学科
-
小川 智
岩手大学工学部
-
西川 尚男
岩手大学工学部
-
森 竜雄
名古屋大学工学研究科
-
森 竜雄
名古屋大学
-
森 竜雄
名古屋大学大学院
-
西川 尚男
岩手大学地域連携推進センター
-
西野 俊祐
名古屋大学大学院工学部
-
森 竜雄
名古屋大学大学院工学部
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