Platinum Etching and Plasma Characteristics in RF Magnetron and Electron Cyclotron Resonance Plasmas
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人応用物理学会の論文
- 1993-12-30
著者
-
西川 恵子
千葉大学大学院融合科学研究科
-
西川 恵子
千葉大
-
NISHIKAWA Kazuyasu
Semiconductor Research Laboratory, Mitsubishi Electric Corporation
-
OOMORI Tatsuo
Semiconductor Research Laboratory, Mitsubishi Electric Corporation
-
NAMBA Keisuke
Semiconductor Research Laboratory, Mitsubishi Electric Corporation
-
Namba K
Semiconductor Research Laboratory Mitsubishi Electric Corporation
-
Oomori T
Mitsubishi Electric Corp. Hyogo Jpn
-
KUSUMI Yoshihiro
Semiconductor Research Laboratory, Mitsubishi Electric Corporation
-
HANAZAKI Minoru
Semiconductor Research Laboratory, Mitsubishi Electric Corporation
-
Hanazaki M
Mitsubishi Electric Corp. Hyogo Jpn
-
Hanazaki Minoru
Semiconductor Group Manufacturing Technology Division Mitsubishi Electric Corporation
-
Kusumi Y
Mitsubishi Electric Corp. Hyogo Jpn
関連論文
- イオン液体はなぜ結晶化しにくいのか--相転移を司る超低速ダイナミクスに迫る (摩訶不思議な第3の液体 特集 イオン液体--液体としての地位と役割)
- イオン液体研究の到達点と課題そして展望 (摩訶不思議な第3の液体 特集 イオン液体--液体としての地位と役割)
- 熱物性からみたイオン液体 : 特異な凝固・融解過程
- 小角X線散乱によるポリマーブレンド繊維の炭素化過程における細孔形成と構造評価
- 熱物性からみたイオン液体 (特集:いま注目のイオン液体)
- 極限条件下 特殊条件下の液体や溶液のゆらぎ (小角散乱特集)
- 国立大学等の法人化に伴う労働安全衛生法問題について
- Development of an Apparatus for High-Resolution Measurement of Permittivity of Fluids near the Critical Point and Detection of the Critical Anomaly for Supercritical Ethylene
- ゆらぎから見た超臨界流体 (超臨界最新技術特集第5号)
- ゆらぎと小角散乱
- Evaluation and Countermeasures of Convective Heat Transfer on Thermal Conductivity Measurement Using the Peltier Effect and Application to Supercritical CO_2
- 24pYA-6 ゆらぎからみた超臨界流体の構造
- 小角X線散乱による超臨界流体のゆらぎ構造の研究
- Development of Thermal Conductivity Measurement for Fluids Which is Convenient and Effective for Samples near the Critical Point
- Structure Change of Glass-like Carbon with Heat Treatment, Studied by Small Angle X-Ray Scattering : I. Glass-like Carbon Prepared from Phenolic Resin
- ガラス状炭素の小角X線散乱と黒鉛化挙動
- 1p-YT-4 超臨界相でのゆらぎ構造の密度依存性
- 回折法による超臨界流体のクラスタリングの研究 (マイクロクラスタ-科学の新展開) -- (液体の局所構造としてのクラスタ-)
- 新しい液体『イオン液体』の科学
- 化学基礎講座 液体の構造を探る
- Construction of a Sample Cell of Poisonous Organic Solvents in Supercritical State for Small-Angle X-Ray Scattering Measurements
- 「ゆらぎの構造化学」確立をめざして : 「乱れ」の定量化実験と格闘
- 230 ポリカプロラクトンの二酸化炭素超臨界雰囲気中での劣化(OS 高分子および高分子複合材料)
- 16.石炭加熱過程における細孔表面のフラクタル次元変化
- 超臨界流体の特性と利用
- 29p-B-6 超臨界流体のゆらぎ構造
- In Situ Fourier Transform Infrared Measurements of Si Surface and Bulk Plasmas in Cl_2/O_2 and HBr/O_2 Electron Cyclotron Resonance Plasma Etching: Influence of Oxygen on Reaction Products
- In situ Monitoring of Product Species in Plasma Etching by Fourier Transform Infrared Absorption Spectroscopy
- Anisotropic Etching of n^+-Polysilicon Using Beam Plasmas Generated by Gas Puff Plasma Sources
- Chemical Kinetics of Chlorine in Electron Cyclotron Resonance Plasma Etching of Si ( Plasma Processing)
- Multicusp Electron-Cyclotron-Resonance Plasma Source Working with Microwaves Radially Injected through an Annular Slit
- Measurement of the Cl Atom Concentration in RF Chlorine Plasmas by Two-Photon Laser-Induced Fluorescence
- Plasma Chemical View of Magnetron and Reactive Ion Etching of Si with Cl_2 : Etching and Deposition Technology
- Plasma Chemical View of Magnetron and Reactive Ion Etching of Si with Cl_2
- Scanning Tunneling Microscopy and Atomic Force Microscopy Study on Interface between Molecular-Beam-Grown Pt Film and Si (111) Substrate
- Scanning Tunneling Microscope and Atomic Force Microscope Observation of Topography of Molecular-Bearm-Epitaxy-Grown Pt Films on Cu Buffer Layer and Si(111)-(7×7) Substrate
- Etching for 0.15-μm-Level Patterns with Low Microloading Effect Using Beam Plasmas Generated by Gas Puff Plasma Sources
- Simulation of Ion Trajectories near Submicron-Patterned Surface Including Effects of Local Charging and Ion Drift Velocity toward Wafer ( Plasma Processing)
- Platinum Etching and Plasma Characteristics in RF Magnetron and Electron Cyclotron Resonance Plasmas
- 小角X線散乱による多孔質炭素材料の細孔構造の研究
- イミダゾリウム系イオン液体の相転移挙動 (小特集 イオン液体(1)総論ならびに基礎物性研究の動向)
- Effects of O2 Addition on BCl3/Cl2 Plasma Chemistry for Al Etching
- イミダゾリウム系イオン液体の相転移挙動
- 超臨界流体の構造とゆらぎ