6. 熱プラズマの成膜プロセスへの応用(<講座>熱プラズマの物理・化学過程とその応用VI)
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概要
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In this chapter, several applications of thermal plasma to film preparation are given, as the final lecture in the successive six lectures entitled as "the physical and chemical processes in thermal plasma". Three types of injection plasma processing (IPP) technique are first introduced for the deposition of material. Those are the thermal plasma chemical vapor deposition (CVD), thermal plasma flash evaporation and the thermal plasma spraying. Radio-frequency (rf) plasma and a hybrid type (rf and dc) plasma are next introduced as promising thermal plasma sources in the IPP technique. Experimental data for these three kinds of processing are demonstrated mainly based on our recent researches.
- 社団法人プラズマ・核融合学会の論文
- 1996-06-25
著者
-
寺嶋 和夫
東京大学大学院新領域創成科学研究科
-
吉田 豊信
東京大学大学院工学系研究科
-
寺嶋 和夫
東京大学大学院新領域創成科学研究科物質系専攻
-
吉田 豊信
東京大学
-
吉田 豊信
東京大学大学院工学系研究科マテリアル工学専攻
-
吉田 豊信
東京大学大学院工学系研究科金属工学専攻
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