非晶質Ni-Cr-Si合金薄膜の熱処理
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概要
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さきにフラッシュ蒸着による非晶質Ni-Si合金膜を炬形パルスで電気的に熱処理する方法について報告した。この方法の特長は薄膜の温度を迅速に制御できる点であり、速やかに所定温度に到達させる必要があるような実験、例えば熱処理中の非晶質膜の構造変化に要する活性化エネルギーを求める場合に有用であることを報告した。今回Ni_<0.5>Si_<0.5>中にCrを20 at.%まで混入する実験を行ったところ、製膜直後の膜の抵抗値はCrを混入していってもあまり変化しないにもかかわらず、構造変化に要する活性化エネルギーはCrを増加させると増大し、Cr原子が構造変化をさせ難くしていることが分かった。この場合熱処理の初期段階で構造変化するため、炉中熱処理に比べ迅速に一定温度に到達させ得る上記電気的熱処理方法が有用であることも確認した。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1994-09-26
著者
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