抵抗温度係数の小さいNi-Si2元合金薄膜
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概要
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非晶質合金の熱処理過程を利用して有用なNi-Si2元合金薄膜を作製することを試みた.同時蒸着法による膜中のSiの量が30wt.%以上によると構造は非晶質になった.また熱処理によって極めて微小なTCRの抵抗薄膜が作製できた.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1993-06-25
著者
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