Ni系アモルファス合金薄膜の作製

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概要

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これまでに抵抗加熱あるいはフラッシュ蒸着法によって作製したアモルファスNi-Si系合金薄膜の熱処理による構造変化・熱処理変化を調べ、アモルファス構造から出発した場合の熱処理による膜の物性の特異性を、膜構造やその電気的特性の熱処理変化などの結果から、明らかにしてきた。今回はSi以外の材料を用いた場合、熱処理による構造変化や電気的特性の変化がSiの場合とどう異なるかを調べることを試みた。Si以外の材料としてGe、SiOを選び、Niとの混合率はNi-Si合金の構造がアモルファスになることが分かっているNi/Si=60/40at.%の場合と同一組成のものを選び、熱処理前後の膜の構造をX線回折によって調べた。またこれらの膜はこれまでにNi-Siで行ってきたのと同じように、熱処理による電気的特性の変化を測定した。
社団法人電子情報通信学会の論文
1996-03-11

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