分布RC定数線路のトリミング
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概要
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これまでにNi-Siアモルファス薄膜を用いたLow Pass,High Pass,Band Cut形多層分布RC線路を製作し、特性インピーダンス・電圧伝達関数の実測値と解析解およびシミュレーション結果などについて検討した結果を報告した。しかしながら、実際にフィルターを作成してみるとなかなか所望の周波数特性を有するものを得ることが難しいので、作成後のフィルターの周波数調整を行なう技法を開発する必要性が痛感された。精密皮膜抵抗の場合に良く用いられる抵抗調整方法としてレーザートリミングの手法がある。筆者らはこの方法に成膜調整も加えることによって遮断周波数を高・低何れの方向にも調整する方法を考え、実際に作成可能な線路定数を用いた場合の周波数調整範囲・トリミング位置による調整量の違いをシミュレーションによって定量的に明らかにした。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1996-09-18
著者
-
石井 順也
近畿大学生物理工学部電子システム情報工学科
-
児玉 淳一
近畿大学理工学部電気電子工学科
-
藤本 英明
近畿大学理工学部
-
石井 順也
近畿大学生物理工学部
-
石井 順也
近畿大学理工学部電子工学科
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