アモルファス薄膜抵抗を用いた分布RC定数回路の作製-II
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概要
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さきにNi-Siアモルファス薄膜を用いた単層分布RC回路を作製し,入力側からみたインピーダンスの実測値と解析解およびシミュレーション結果が良く一致することを報告した。今回はバンドカットフィルターになると考えられる多層分布RC回路を設計製作し、その電圧伝送回数を測定した結果ほぼ予測したような結果が得られたので報告する。しかし試作回路はそれほど良好なバンドカット特性を示しているとは言えず、今後バンドカット周波数やゲインの適切な調整を行うことが必要と考えられた。そこでさきに報告した回路シミュレータをさらに改善して、Low passおよびHigh pass分布RC回路シミュレータを作成し、今回の実験結果と比較することによって今後作製する回路の改善方法についても検討した。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1995-03-27
著者
-
石井 順也
近畿大学生物理工学部電子システム情報工学科
-
藤本 英昭
近畿大学理工学部
-
児玉 淳一
近畿大学理工学部電気電子工学科
-
藤本 英昭
近畿大学電気電子工学科
-
石井 順也
近畿大学生物理工学部
-
石井 順也
近畿大学
-
石井 順也
近畿大学理工学部電子工学科
-
何 徳偉
近畿大学理工学部
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