分布RC Low pass filterのトリミング
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概要
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これまでにNi-Siアモルファス薄膜を用いたLow Pass, High Pass, Band Elimination形多層分布RC線路を作製し, 特性インピーダンス・電圧伝達関数の実測値と解析解およびシミュレーション結果などについて検討した結果を報告した。しかしながら, 実際にフィルターを作成してみるとなかなか所望の周波数特性を有するものを得ることが難しいので, 作成後のフィルターの周波数調整を行う技法を開発する必要性が痛感された。今回は分布定数Low pass filterを実際に作製し, trimmingによる周波数調整範囲・トリミング位置による調査量の違いを測定し, シミュレーション結果と比較した。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1997-03-06
著者
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